AZ® 125 nXT

Allgemeine Informationen

AZ^_® 125 nXT ist ein Negativlack für Schichtdicken bis über 100 µm bei gleichzeitig sehr hoher Flankensteilheit. Seine Quervernetzung und sehr gute Lackhaftung macht ihn in für alle üblichen Galvanik-Anwendungen stabil. Dieser Lack benötigt keinen post exposure bake oder Pausen zwischen den Prozessschritten (wie z. B. eine Rehydrierung vor oder Wartezeit zum Ausgasen nach dem Belichten), so dass sich die Prozessierung sogar noch einfacher als mit Positivlacken gestaltet.

Gebindegrößen: 100 ml, 250 ml, 500 ml, 1000 ml, 2,5 L und 3,78 L

Herausragende Eigenschaften

• i-line, 30 - 100 µm Lackschichtdicke via Einfachbelackung
• 1 mm Lackschichtdicke und darüber möglich
• Wässrig alkalisch entwickelbar (z. B. AZ^_® 326/726/826 MIF)
• Kein post exposure bake, photopolymerisiert beim Belichten
• Keine Rehydrierung notwendig, keine N_²-Bildung beim Belichten
• Sehr gute Lackhaftung, kein Unterwachsen der Lackstrukturen
• Nasschemisch entfernbar (z. B. mit dem TechniStrip P1316)
• Optimiert für die Galvanik, nass- und trockenchem. Ätzen

Entwickler

Wir empfehlen die TMAH-basierten Entwickler AZ^_® 326 MIF Developer, AZ^_® 726 MIF Developer oder AZ^_® 826 MIF Developer.

Entfernen der Lackschicht

Der für den AZ^_® 125 nXT optimierte Stripper ist der NMP-freie TechniStrip P1316, im Falle alkalisch empfindlicher Substratmaterialien der TechniStrip P1331 oder TechniStrip MLO07. Lösemittel wie NMP oder das ungiftige DMSO sind zum Entfernen der Fotolackschicht dann geeignet, wenn die Lackschichtdicke und der Quervernetzungsgrad der Lackschicht nicht zu groß sind.

Grundsätzlich empfiehlt sich bei sehr dicken oder stärker quervernetzten Lackschichten ein Erwärmen des Removers auf 60 - 80°C, evtl. unterstützt im Ultraschallbad.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ_125nXT (TDS)
> AZ 125nXT (Zusätzliche Informationen)