AZ® 5209 E

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 0.6 … 2.6 µm
UV-Empfindlichkeit: g-line, i-line, Breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 3,78 L Flasche

Generelle Informationen

Der AZ^_® 5209 E ist ein image-reversal Resist, welcher in den zuerst belichteten Bereichen in geringem Maße quervernetzt und deshalb nach dem Entwickeln eine erhöhte thermische Beständigkeit für z.B. lift-off Anwendungen aufweist. Er zeichnet sich durch eine erhöhte Haftung aus und kann mit einer Vielzahl an Metall-Ion-freien und Anorganischen Developern (sowohl mit als auch ohne Tensiden) entwickelt werden.

Developement

Empfohlen ist der AZ^_® 726 MIF oder der AZ_^® 351B 1:4 auch möglich ist der AZ^_® 400K 1:4 oder AZ^_® 326 MIF.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ^_® 5209E (TDS)