Schutzlacke
! AZ® 520 D Produktionsende !
Mit dem verlinkten PCN teilte Merck uns bedauerlicherweise mit, dass die Produktion des Schutzlacks AZ® 520 D spätestens Ende 2021 enden wird.
Grundsätzlich ist der AZ® 520 D ein Fotolack ohne Fotoinitiator, was es vergleichbar einfach machen sollte, eine geeignete Alternative wie z.B. den AZ® P4K-AP zu finden.
Wir würden uns freuen, wenn Sie sich mit uns in Verbindung setzen, um Ihre Anforderungen an einen Schutzlack zu diskutieren und einen anderen Resist aus unserem Portfolio zu finden, bei dem es sich entweder um einen kostengünstigen Standard-Fotolack oder einen anderen PAC-freien Lack handeln kann.
Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
AZ P4K-AP
Schutzlack
Schichtdickenbereich und Belichtung
Schichtdicke: 3. ... 4.0 µm
UV-Empfindlichkeit: Keine
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 3,785 Liter
Generelle Informationen:
AZ® P4K-AP ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist. Er ist gegenüber vielen sauren und leicht alkalischen Ätzbädern stabil und kann in einer Dicke von ca. 3 µm aufgebracht werden.
Bitte beachten Sie, dass dieser Resist in KOH oder NaOH basierten Ätzen wie sie für das Siliciumätzen verwendet werden nicht stabil ist.
Strippen
Entfernt werden kann dieses Produkt mit den gleichen Strippern wie sie auch für unsere Fotolacke verwendet werden.
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® P4K-AP (TDS)
AZ 520 D
Schutzlack
Schichtdickenbereich und Belichtung
Schichtdicke: 1.5 ... 3.0 µm
UV-Empfindlichkeit: Keine
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen:
AZ® PC 520 D ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist. Der Lack ist blau eingefärbt damit die Beschichtung einfach inspiziert werden kann. Er ist gegenüber vielen sauren und leicht alkalischen Ätzbädern stabil und kann in einer Dicke von ca. 2 µm aufgebracht werden.
Bitte beachten Sie, dass dieser Resist in KOH oder NaOH basierten Ätzen wie sie für das Siliciumätzen verwendet werden nicht stabil ist.
Im Datenblatt wird auch ein Produkt namens AZ® 546D erwähnt. AZ® 546D wird seit 2005 nicht mehr produziert und ist deshalb leider nicht mehr verfügbar.
Strippen
Entfernt werden kann dieses Produkt mit den gleichen Strippern wie sie auch für unsere Fotolacke verwendet werden.
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® 520 D (TDS)