TI xLift-X Fotolack
früher TI xLift
HINWEIS: Die Eigenschaften des neuen TI xLift-X sind so gut wie identisch zu dem früheren TI xLift. Bei der Anwendung dürfte es zu keinen Problemen führen.
Schichtdickenbereich und Belichtung
Schichtdicke: 4 ... 25 μm
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2,5 L und 5 Liter
Generelle Informationen
Ein großes Prozessfenster für schwach bis sehr stark unterschnittene Lackkanten erlauben den Lift-off kritischer Schichten. Auch für Anwendungen in der Galvanik bieten sich die einstellbar negativen Lackprofile an.
Die hohe optische Absorption im Sichtbaren erschwert jedoch die Verwendung von Justiermarken. Es ist zu prüfen, ob die AZ® nLOF 2000 Serie eine sinnvolle Alternative darstellt.
Was 'einstellbarer Unterschnitt' bedeutet - zwei Beispiele
Entwickler
AZ® 400K 1:3 ... 1:4
AZ® 826 MIF
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TI xLift-X (TDS)
