Remover / Stripper

Entfernen von Positivlacken

Organische Lösemittel

Wenn Positivlacke keinen höheren Temperaturen als ca. 140°C ausgesetzt waren, eignen sich organische Lösemittel als Remover, wie ...

Aceton ist zum Entfernen von Fotolack-Schichten wegen seines hohen Dampfdruckes nur bedingt geeignet. Falls Aceton dennoch verwendet werden soll, empfiehlt sich ein Spülen des mit Lack verunreinigten Acetons mit Isopropanol bevor das Aceton wieder antrocknet und Schlieren bildet. Von einem Erhitzen des Acetons zur Erhöhung der Lösekraft ist wegen der hohen Brandgefahr dringend abzuraten.

> Details und Datenblätter zu Aceton hier.

NMP (1-Methyl-2-pyrrolidon) ist ein zum Entfernen von Fotolack-Schichten sehr gut geeignetes Lösemittel. Seine Unbrennbarkeit und der sehr geringe Dampfdruck von NMP erlauben ein Erhitzen auf 80°C, um auch stärker quervernetzte Fotolack-Schichten entfernen zu können. Da NMP seit einiger Zeit als giftig und fruchtschädigend eingestuft ist, sollte über Alternativen nachgedacht werden, wie z.B. ...

> Details und Datenblätter zu NMP hier.

DMSO (Dimethylsulfoxid), welches als Remover eine ähnlich gute Performance wie NMP aufweist aber ungiftig ist.

> Details und Datenblätter zu DMSO (Handelsname TechniStrip Micro D350) hier.

AZ® 100 Remover ist ein Amin-Lösemittel-Gemisch und Standard-Remover für AZ® und TI Fotolacke. Zur Verbesserung seiner Performance kann AZ® 100 Remover auf 60°C erhitzt werden, um auch hartnäckige Fotolack-Schichten zu entfernen. Da AZ® 100 Remover bei "Verunreinigung" mit Wasser stark alkalisch reagiert, eignet er sich für alkalisch empfindliche Substrate wie z. B. Aluminium oder ITO nur bedingt. In diesem Falls ist darauf zu achten, AZ® 100 Remover vollkommen wasserfrei (auch  keine Spuren davon!) einzusetzen.

> Details und Datenblätter zum AZ® 100 Remover hier.

Entfernen quervernetzter Positivlacke, Epoxy- und Acrylbasierter Harze sowie Polyimiden

TechniStrip® P1316

TechniStrip® P1316 ist ein NMP-freier, mit nahezu allen gängigen Substratmaterialien kompatibler Hochleistungs-Remover mit sehr starker Lösekraft für

  • Novolak-basierte auch quervernetzte Lacke (u. a. alle AZ® Positivlacke)

  • Epoxy- und Acryl-basierte Lacke

  • Polyimide, „bonding glues“

  • Trockenfilme

Bei typischen Anwendungstemperaturen um 75°C löst TechniStrip® P1316 auch z. B. durch Trockenätzen oder Ionenimplantation stark quervernetzte Lacke in wenigen rückstandsfrei auf. TechniStrip® P1316 kann auch im Sprühverfahren eingesetzt werden.

> Details und Datenblätter zum TechniStrip® P1316 hier.

Entfernen von Negativlacken

TechniStrip® NI555

TechniStrip® NI555 ist ein NMP-freier und mit nahezu allen gängigen Substratmaterialien kompatibler Hochleistungs-Remover mit sehr starker Lösekraft für Novolak-basierte Negativlacke und sehr dicke Positivlacke wie

  • AZ® nLOF 2070

  • AZ® 15 nXT

  • AZ® 40 XT

TechniStrip® NI555 wurde dafür entwickelt, auch quervernetzte Lacke nicht nur abzulösen, sondern rückstandsfrei aufzulösen. Dadurch werden Verunreinigungen des Beckens und Filter durch Lackpartikel und -häutchen verhindert, wie sie bei Standard-Strippern auftreten können.

> Details und Datenblätter zum TechniStrip® NI555 hier.

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet: Technische Infos.