Antireflexionsbeschichtung

! WICHTIGER HINWEIS ZUM AZ AQUATAR VIII-A 45 !

Wir möchten Sie über eine Änderung des Produkts AZ Aquatar VIII-A 45 von Merck informieren. Die Änderung des Produktes betrifft ein Additiv welches durch ein gleichwertiges Additiv eines anderen Herstellers ausgetauscht werden musste. Die Übergangsfrist in der wir Ihnen noch den alten AZ Aquatar VIII-A 45 liefern konnten geht nun zu Ende und ab März 2020 wird es dann den „neuen“ AZ Aquatar VIII-A 45“ geben.

Sollten Sie noch kein Muster der neuen Anti-Reflexionsbeschichtung erhalten haben, dürfen Sie sich gerne an uns wenden.

> AZ® Aquatar VIII A45 PCN Letter
> Technical data package for
AZ® Aquatar VIII A45

Thank's for understanding!

Der AZ Aquatar wurde eingestellt. Die Alternativ-Produkte sind:

> AZ Aquatar VIII-A 45
>
AZ Aquatar VIII-A 30

AZ Aquatar-VIII A45 und -VIII A30

(TARC)

Allgemeine Information

AZ Aquatar®-VIII A45 und -VIII A30 ist eine Antireflexbeschichtung der obersten Schicht zur Verwendung mit g- und i-line. AZ Aquatar®-VIII A45 und -VIII A30 wirken wie eine optische Beschichtung an der Grenzfläche Fotolack / Luft und verbessern den Bildkontrast. Mehrfachreflexionen innerhalb des Fotolacks werden ebenfalls unterdrückt, das Ergebnis ist im Allgemeinen eine Verringerung der Amplitude der Schwingkurve auf 1/3. Die Anwendung ist sehr einfach: Sie wird nur auf den Fotolack geschleudert, es ist kein zusätzlicher Backzyklus erforderlich, und der Standardentwicklungszyklus entfernt ihn. Dieser einfache Prozess reduziert die Variation der Linienbreite über die Topographie erheblich, unterdrückt jedoch nicht das reflektierende Einkerben.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ Aquatar TARC (TDS)
> AZ Aquatar (TDS)
>
AZ Aquatar (Info)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

AZ Barli

(BARC)

Allgemeine Informationen

AZ® BARLi®-II ist eine untere Antireflexionsschichtbeschichtung (für den Einsatz zwischen Resist und Substrat) zur Verwendung auf stark reflektierenden Oberflächen in der Halbleiterindustrie. Es wurde für positive Fotolacke entwickelt und ist für die i-line-Belichtung optimiert. Nach Abschluss des lithografischen Prozesses wird AZ® BARLi®-II durch einen Trockenätzprozess strukturiert.

Das AZ® BARLi®-II ist mit Fotoresist kompatiblen Lösungsmitteln formuliert, um den EBR-Prozess (Randentlackung) zu vereinfachen und um sowohl umweltfreundlich als auch Anwender freundlich zu sein. Wir empfehlen in Verbindung mit AZ® BARLi®-II zur Randentlackung AZ® EBR 70/30.

AZ® BARLi®-II hat die nahezu optimalen Werte für die Brechungsindizes (n und k) zur Reflexunterdrückung für die i-Line-Lithographie, wodurch die Reflexion minimiert und eine maximale Reduktion der Swingcurve für Fotolackschichten gewährleistet wird. Dieses Material besteht aus stark absorbierenden polymergebundenen Farbstoffen und bietet eine hervorragende Beschichtungshomogenität und Stufenbedeckung.

AZ® BARLi®-II zeigt eine hohe Ätzselektivität und eine hohe thermische Stabilität bis 230 ° C. Es entsteht an der Grenzfläche keine Vermischung mit Fotolack.

AZ® BARLi®-II ist in zwei Dickenklassen erhältlich, 900 A und 2000 A, um eine optimale Filmdicke für das erste und das zweite Interferenzminimum bei einer Schleuderdrehzahl von etwa 3000 U / min zu erreichen.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:

AZ Barli II (TDS)
> AZ® Barli®- II (Info)
> Informationen zum Prozess

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.