AZ Barli

(BARC)

Allgemeine Informationen

AZ® BARLi®-II ist eine untere Antireflexionsschichtbeschichtung (für den Einsatz zwischen Resist und Substrat) zur Verwendung auf stark reflektierenden Oberflächen in der Halbleiterindustrie. Es wurde für positive Fotolacke entwickelt und ist für die i-line-Belichtung optimiert. Nach Abschluss des lithografischen Prozesses wird AZ® BARLi®-II durch einen Trockenätzprozess strukturiert.

Das AZ® BARLi®-II ist mit Fotoresist kompatiblen Lösungsmitteln formuliert, um den EBR-Prozess (Randentlackung) zu vereinfachen und um sowohl umweltfreundlich als auch Anwender freundlich zu sein. Wir empfehlen in Verbindung mit AZ® BARLi®-II zur Randentlackung AZ® EBR 70/30.

AZ® BARLi®-II hat die nahezu optimalen Werte für die Brechungsindizes (n und k) zur Reflexunterdrückung für die i-Line-Lithographie, wodurch die Reflexion minimiert und eine maximale Reduktion der Swingcurve für Fotolackschichten gewährleistet wird. Dieses Material besteht aus stark absorbierenden polymergebundenen Farbstoffen und bietet eine hervorragende Beschichtungshomogenität und Stufenbedeckung.

AZ® BARLi®-II zeigt eine hohe Ätzselektivität und eine hohe thermische Stabilität bis 230 ° C. Es entsteht an der Grenzfläche keine Vermischung mit Fotolack.

AZ® BARLi®-II ist in zwei Dickenklassen erhältlich, 900 A und 2000 A, um eine optimale Filmdicke für das erste und das zweite Interferenzminimum bei einer Schleuderdrehzahl von etwa 3000 U / min zu erreichen.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:

AZ Barli II (TDS)
> AZ® Barli®- II (Info)
> Informationen zum Prozess

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.