AZ 111 XFS Fotolack

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 1 µm bei 4000 u/min
UV-Empfindlichkeit: i, h-line (310-420nm)
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen

AZ® 111 XFS ist ein spezieller "low-cost" Fotolack mit einer sehr guten Haftung auf vielen Oberfächen. Er ist gedacht für einfache naßchemische Ätzprozesse mit einer geringen Anforderung an die Auflösung. Mit einer Schichtdicke von ca. 1 µm bei 4000 u/min zählt er zu unseren cross-over Dünnlacken.

Der dazu passende Entwickler

Dieser Resist erfordert einen speziellen Entwickler, den AZ 303 Developer der 1 : 3 - 1 : 4 angewandt werden sollte.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
>
Photoresist AZ 111XFS

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.