AZ® 3DT-102M-15

Verstärkter Positiv-Fotolack

Allgemeine Informationen

AZ 3DT-102M-15 ist ein chemisch verstärkter Positiv-Fotoresist mit einem sehr hohen Aspektverhältnis. Er ist für die Verwendung als Maske für Trockenätz-, Ionenimplantations-, RDL- und Galvanikanwendungen (Cu-kompatibel) vorgesehen. Der Lack kann sowohl mit i-line Steppern als auch mit herkömmlichen Mask Alignern verwendet werden. Der AZ 3DT-102M-15 ist für einen Schichtdickenbereich von 8-20 µm vorgesehen.

Gebindegrößen: 3,78 L Flaschen (1VE = 4 x 3,78 Liter)

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
>
AZ® 3DT-102M-15 (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

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