AZ® 5209 E

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 0.6 … 2.6 µm
UV-Empfindlichkeit: g-line, i-line, Breitband/monochromatisch
Gebindegrößen:
3,78 L Flasche

Generelle Informationen

Der AZ® 5209 E ist ein image-reversal Resist, welcher in den zuerst belichteten Bereichen in geringem Maße quervernetzt und deshalb nach dem Entwickeln eine erhöhte thermische Beständigkeit für z.B. lift-off Anwendungen aufweist. Er zeichnet sich durch eine erhöhte Haftung aus und kann mit einer Vielzahl an Metall-Ion-freien und Anorganischen Developern (sowohl mit als auch ohne Tensiden) entwickelt werden.

Developement

Empfohlen ist der AZ® 726 MIF oder der AZ® 351B 1:4 auch möglich ist der AZ® 400K 1:4 oder AZ® 326 MIF.

 

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ
® 5209E (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.