AZ® 5214 E

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 1.0 ... 2.0 µm
UV-Empfindlichkeit: i- und h-line (310 - 420 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2.5 L und 5 L

Generelle Informationen

AZ^_® 5214 E ist ein Umkehrlack, welcher in den zuerst belichteten Bereichen in geringem Masse quervernetzt und deshalb nach dem Entwickeln eine erhöhte thermische Beständigkeit für z. B. Liftoff Anwendungen aufweist. Durch die geringe Lackschichtdicke ist das Prozessparameterfenster für einen ausgeprägten Unterschnitt relativ klein. Wenn es die Auflösungsanforderungen erlauben, kann in diesem Fall ein dickerer Umkehrlack (TI 35ESx) oder Negativlack (AZ^_® nLOF 2000) den Prozess reproduzierbarer gestalten.

Entwickler

Empfohlen ist der AZ^_® 351B 1 : 4 oder AZ^_® 726 MIF;
auch möglich ist der AZ^_® 400K 1 : 4 oder AZ^_® 326 MIF.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ^_® 5214 E (TDS)

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Mit optimierten Prozessparametern erzieltes, unterschnittenes Lackprofil des AZ® 5214 E.

Quelle:  AZ® 5200-E-IR NEGATIVE TONE PROCESSING by AZ-EM®