! AZ 5214E Produktionsende !

Der Hersteller Merck teilte uns mit, dass die Produktion des AZ 5214E bis Ende 2021 eingestellt werden wird (offizielle Statement). Wir wurden auch darüber informiert, dass ein ähnliches (aber nicht identisches) Produkt bereits auf dem Markt ist: Die japanische Version des AZ 5214E.

Um Sie bei der Qualifizierung des japanischen AZ 5214E ​​ zu unterstützen, können wir in naher Zukunft (voraussichtlich Februar / März 2021) Muster dieses Resists bereitstellen und Sie in technischer Hinsicht bei der Optimierung der Prozessparameter unterstützen. Eine weitere Alternative wäre auch der AZ LNR-003.

Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

Die folgenden Dokumente zeigen die Vergleichsstudien des bisherigen und des japanischen AZ 5214E ​​sowohl im positiven als auch im negativen (Umkehr-) Modus.

> AZ 5214E comparison studies negative
>
AZ 5214E comparison studies positive

> AZ 5214E Japan MSDS (EN)
> AZ 5214E Japan MSDS (DE)

AZ® 5214 E

Umkehrlack für hohe Auflösungen

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 1.0 ... 2.0 µm
UV-Empfindlichkeit: i- und h-line (310 - 420 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2.5 L und 5 L

Generelle Informationen

AZ® 5214 E ist ein Umkehrlack, welcher in den zuerst belichteten Bereichen in geringem Masse quervernetzt und deshalb nach dem Entwickeln eine erhöhte thermische Beständigkeit für z. B. Liftoff Anwendungen aufweist. Durch die geringe Lackschichtdicke ist das Prozessparameterfenster für einen ausgeprägten Unterschnitt relativ klein. Wenn es die Auflösungsanforderungen erlauben, kann in diesem Fall ein dickerer Umkehrlack (TI 35ESx) oder Negativlack (AZ® nLOF 2000) den Prozess reproduzierbarer gestalten.

Entwickler

Empfohlen ist der AZ® 351B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF;
auch möglich ist der AZ® 400K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® 5214 E (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Mit optimierten Prozessparametern erzieltes, unterschnittenes Lackprofil des AZ® 5214 E.
Quelle:  AZ® 5200-E-IR NEGATIVE TONE PROCESSING by AZ-EM®
®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.