! AZ MIR 701 Produktänderung!
Der Hersteller des Fotolacks AZ 701 MIR (14 und 29 cPs) hat uns über eine geplante Produktänderungsbenachrichtigung (offizielles Statement) bezüglich eines PFOA- Inhaltsstoffs informiert.
Wie das unten aufgeführte Qualifikationsdokument (je eines für beide Viskositätsstufen dieses Lacks) zeigt, weist der PFOA-freie AZ 701 MIR keine signifikanten Änderungen im Vergleich zum PFOA-haltigen AZ 701 MIR auf.
Wenn Sie den PFOA-freien AZ 701 MIR testen oder qualifizieren möchten, können wir Ihnen Muster zur Verfügung stellen.
Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!
Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
> AZ MIR 701 14CPS comparison studies
> AZ MIR 701 29CPS comparison studies
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-frei MSDS (DE)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-frei MSDS (DE)
AZ® MIR 701
Hochauflösend und temperaturstabil
Verfügbar in zwei Varianten:
- AZ MIR701 14CP
AZ MIR701 29CP
Schichtdickenbereich und Belichtung
Schichtdicke 14CP Variante: 900 nm bei 4.000 U/min
Schichtdicke 29CP Variante: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: auf Anfrage
Generelle Informationen
AZ® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert.
AZ® MIR 701 kann problemlos weiter verdünnt werden,um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zuerzielen.
Entwickler
AZ® 351 B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF empfohlen;
AZ® 400 K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF möglich
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)
> AZ MIR 701 29CPS (Zusätzliche Informationen)
Fotolithografie Anwendungshinweise
Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info
- 300 nm resist lines attained with the AZ® 701 MiR. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®
- A 1.2 µm structure after 130°C hardbake. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®