AZ® MIR 701
Hochauflösend und temperaturstabil
Verfügbar in zwei Varianten:
- AZ MIR701 14CP
AZ MIR701 29CP
Schichtdickenbereich und Belichtung
Schichtdicke 14CP Variante: 900 nm bei 4.000 U/min
Schichtdicke 29CP Variante: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: auf Anfrage
Generelle Informationen
AZ® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert.
AZ® MIR 701 kann problemlos weiter verdünnt werden,um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zuerzielen.
Entwickler
AZ® 351 B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF empfohlen;
AZ® 400 K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF möglich
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)
> AZ MIR 701 29CPS (Zusätzliche Informationen)
> AZ MIR 701 14CPS comparison studies
> AZ MIR 701 29CPS comparison studies
- 300 nm resist lines attained with the AZ® 701 MiR. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®
- A 1.2 µm structure after 130°C hardbake. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®