AZ® MIR 701

Verfügbar in zwei Varianten:

• AZ MIR701 14CP

• AZ MIR701 29CP

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke 14CP Variante: 900 nm bei 4.000 U/min
Schichtdicke 29CP Variante: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: auf Anfrage

Generelle Informationen

AZ^_® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert.

AZ^_® MIR 701 kann problemlos weiter verdünnt werden,um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zuerzielen.

Entwickler

AZ^_® 351 B 1 : 4 oder AZ^_® 726 MIF empfohlen;
AZ^_® 400 K 1 : 4 oder AZ^_® 326 MIF möglich

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info