AZ® MIR 701

Hochauflösend und temperaturstabil

Verfügbar in zwei Varianten:

  • AZ MIR701 14CP
  • AZ MIR701 29CP

 

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke 14CP Variante: 900 nm bei 4.000 U/min
Schichtdicke 29CP Variante: 1.6 µm bei 4.000 U/min
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: auf Anfrage

Generelle Informationen

AZ® MIR 701 ist als thermischstabiler, hoch auflösender Positivlack vor allem für trockenchemisches Ätzen feiner bis sehr feiner Strukturen optimiert.

AZ® MIR 701 kann problemlos weiter verdünnt werden,um z. B. in Anwendungen der Laserinterferenz-Lithographie noch bessere Auflösungen zuerzielen.

Entwickler

AZ® 351 B 1 : 4 oder AZ® 726 MIF empfohlen;
AZ® 400 K 1 : 4 oder AZ® 326 MIF möglich

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ MIR 701 (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

300 nm resist lines attained with the AZ® 701 MiR. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®
A 1.2 µm structure after 130°C hardbake. Source: AZ® MiR 701 Product Data Sheet by AZ-EM®
®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.