AZ® nLOF 5510
thermisch stabile Negativlacke für Lift-off
Herausragende Eigenschaften
Der AZ® nLOF 5510 ist ein dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation. Kompatibel mit TMAH-basierten Entwicklern.
Technisches Datenblatt:
Das technische Datenblatt der AZ® nLOF 5510 mit weiteren technischen Informationen finden Sie hier:
Fotolithografie Anwendungshinweise
Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info
Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten
Gerne stellen wir Ihnen Muster für Testzwecke zur Verfügung. Weitere Gebindegrößen gerne auf Anfrage.
Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.
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