Schutzlacke

! AZ® 520 D Produktionsende !

Mit dem verlinkten PCN teilte Merck uns bedauerlicherweise mit, dass die Produktion des Schutzlacks AZ® 520 D spätestens Ende 2021 enden wird.
Grundsätzlich ist der AZ® 520 D ein Fotolack ohne Fotoinitiator, was es vergleichbar einfach machen sollte, eine geeignete Alternative wie z.B. den AZ® P4K-AP zu finden.
Wir würden uns freuen, wenn Sie sich mit uns in Verbindung setzen, um Ihre Anforderungen an einen Schutzlack zu diskutieren und einen anderen Resist aus unserem Portfolio zu finden, bei dem es sich entweder um einen kostengünstigen Standard-Fotolack oder einen anderen PAC-freien Lack handeln kann.

Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

AZ P4K-AP

Schutzlack

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 3. ... 4.0 µm
UV-Empfindlichkeit: Keine
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 3,785 Liter

Generelle Informationen:

AZ® P4K-AP ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist. Er ist gegenüber vielen sauren und leicht alkalischen Ätzbädern stabil und kann in einer Dicke von ca. 3 µm aufgebracht werden.

Bitte beachten Sie, dass dieser Resist in KOH oder NaOH basierten Ätzen wie sie für das Siliciumätzen verwendet werden nicht stabil ist.

Strippen

Entfernt werden kann dieses Produkt mit den gleichen Strippern wie sie auch für unsere Fotolacke verwendet werden.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® P4K-AP (TDS)

AZ 520 D

Schutzlack

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 1.5 ... 3.0 µm
UV-Empfindlichkeit: Keine
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen:

AZ® PC 520 D ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist. Der Lack ist blau eingefärbt damit die Beschichtung einfach inspiziert werden kann. Er ist gegenüber vielen sauren und leicht alkalischen Ätzbädern stabil und kann in einer Dicke von ca. 2 µm aufgebracht werden.

Bitte beachten Sie, dass dieser Resist in KOH oder NaOH basierten Ätzen wie sie für das Siliciumätzen verwendet werden nicht stabil ist.

Im Datenblatt wird auch ein Produkt namens AZ® 546D erwähnt. AZ® 546D wird seit 2005 nicht mehr produziert und ist deshalb leider nicht mehr verfügbar.

Strippen

Entfernt werden kann dieses Produkt mit den gleichen Strippern wie sie auch für unsere Fotolacke verwendet werden.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® 520 D (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.