TI 35E Fotolack

Schichtdickenbereich und Belichtung

Schichtdicke: 2.5 .. 4.0 µm
UV-Empfindlichkeit: i, h, and g-line (310 - 440 µm)
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen

TI 35 E ist ein image-reversal Resist der sich besonders für Anwendungen anbietet, bei denen sowohl nasschemisch geätzt werden muss aber mit der gleichen Lackmaske auch noch ein Lift off einer aufgebrachten Schicht durchgeführt werden soll.

Entwickler

AZ® 400K und AZ® 826 MIF Developer.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TI 35 E (TDS)

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

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