AZ® 100 Remover

Allgemeine Informationen

AZ^®100 Remover ist ein Universalstripper für Novolak-basierte Photoresistsysteme (gewöhnliche positiv Photoresiste) und basiert auf einem Lösungsmittel und einem Amin. AZ^®100 Remover hat unverdünnt angewandt einen geringen Abtrag an Aluminium. Durch die Verwendung von Ethanolamin ist das Gefährdungspotential gering. Der geringe Dampfdruck erlaubt die Verwendung bei hohen Temperaturen (bis zu 80°C) und er hat eine extrem hohe Effizienz (bis zu 3000 Wafer pro Liter) was kostendämpfend wirkt. Wenn kein Alumnium im Spiel ist, kann der Remover auch mit Wasser verdünnt angewandt werden.

Gebindegrößen: 5 L Flasche (1VE = 4 x 5 Liter)
200 L Fässer auf Anfrage

Kompatibilität

Alle positiv und image reversal Resiste aus unserem Sortiment. Nicht kompatibel mit AZ^® nLof 2070.

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ 100 Remover
> Fotolack entfernen

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Mögliche Versandeinheiten:

• Gebindegrößen: 5L Flaschen (1VE = 4 x 5 Liter)
• 30 L, 200 L Fässer auf Anfrage

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.