AZ® Remover 910

Remover auf Basis organischer Lösungsmittel

Allgemeine Informationen

AZ® Remover 910 wurde entwickelt um positive und negative Resiste ob chemisch verstärkt oder auf der klassischen DNQ/Novolak Plattform aufgebaut, abzulösen und aufzulösen. Dieser Stripper kann auch auf sehr empfindlichen Oberflächen durch keinen oder nur geringen Angriff eingesetzt werden wie:

  • Al, Cu, Ti, W, TiW, TiN, Sn, Ni
  • Si, SiO2

Generelle chemische Eigenschaften:

  • Lösemittelbasiert und enthält Säuren
  • EH&S freundlich: Problemlos in Europa einsetzbar
  • DPGME basiert, kein NMP, DMAC, DMSO und kein TMAH

Gebindegrößen: 5 L Flasche, 200 L Fässer auf Anfrage

Technisches Datenblatt:

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> AZ® Remover 910 (TDS)
> Fotolack entfernen

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Mögliche Versandeinheiten:

  • Gebindegrößen: 5L Flaschen (1 VE = 4 x 5 Liter)

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.