Photoresist Stripper SVD

Quelle:"Metal-Lift-off" ©intelligent fluids®, intelligent-fluids.com

Allgemeine Infomrationen

Fotolack-Stripper SVD (C-JV-DY) entfernt Fotolacke von anorganischen Oberflächen wie Silicium, Glas oder Metall (z.B. Kupfer). Der intelligent fluids® (IF) Wirkmechanismus basiert nicht auf aggressiven Lösungsvorgängen wie bei herkömmlichen Strippern. Stattdessen erfolgt eine sanfte, physikalische Ablösung, sogar von hartnäckigen Schichten. Substrate werden dabei nicht angegriffen.

Der Fotolack-Stripper SVD mit seinen hochdynamischen Strukturen, entfernt die Fotolacke in zwei Schritten:

● Unterwanderung und Fragmentierung
● Umhüllung und Abtrag der Fragmente

Negativlacke werden als größere Fragmente abgelöst und können herausgefiltert werden. Fragmente von Positivlacken werden vom Fluid aufgenommen und inkorporiert

Vorteile:

● Wasserbasiert
● pH Haut-neutral (pH 5,5 – 6,5)
● nicht toxisch, nicht brennbar
● sichere Handhabung
● dermatologisch als „Sehr Gut“ befunden
● leicht biologisch abbaubar

Anwendung

Das IF unverdünnt auf die Oberfläche aufbringen. Kompatibel mit Single- Wafer- und Batch Spray-Equipment. Für Wet-Bencheswird rege Bad-Umwälzung benötigt.

Temperaturbereich: 30 °C bis 70 °C, empfohlen 40 °C to 60 °C

Die Ablösezeiten variieren, je nach Lacktyp und Lithographieparametern von 1 bis 15 min, selten länger.

Gründlich mit Wasser, Ethanol oder Isopropanol spülen. Für Single-Wafer-Rinse werden höhere Spin-Geschwindigkeiten empfohlen.

Bemerkungen:

Nach Verlassen unseres Lagers wird die VLSI-Qualität für 6 Monate garantiert; der Fotolack-Stripper SVD sollte in diesem Zeitraum verbraucht werden. Eine Lagerung über diesen Zeitraum hinaus bedeutet nicht notwendigerweise, dass die Ware unbrauchbar wird (MHD:1 Jahr). Dieses Fluid wurde nicht für Reinigungsprozesse wie post-CMP-Reinigung oder Partikelentfernung entwickelt. Empfohlen werden Single-wafer- oder Batch-Verfahren. Optimale Prozessbedingungen (Verfahren, Zeit, Temperatur) sind individuell zu testen.

Wichtige Hinweise:

Aufbewahrung nur im Originalbehälter. IFs nicht verdünnen, dies beeinträchtigt ihre Wirkung. IFs verdunsten nicht rückstandsfrei; Spülung notwendig. Bitte die Hinweise zu fachgerechtem Umgang, Lagerung und Entsorgung im Sicherheitsdatenblatt beachten. Die Angaben dieses Produktdatenblattes entsprechen dem Stand der Technik. Wir behalten uns Änderungen in der Zukunft vor.

Technical Data Sheet:

For further information please refer to the technical data sheet:
> Photoresist Stripper SVD (TDS)
> Photoresist Removal

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Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Mögliche Versandeinheiten:

  • 5 Liter Flaschen (1 VE = 4 x 5 Liter oder Einzelflaschen)
  • 30 L oder 200 L Fässer auf Anfrage

Mögliche Reinheitsgrade:

  • MOS

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

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