TechniStrip NF26
Trockenfilm Remover
Allgemeine Informationen
TechniStrip NF26 ist ein hocheffizienter Negativ-Fotolack-Remover der meistens zum entfernen von TSV- (Silicium-Durchkontaktierung) und für solder bumping-Masken Anwendung findet.
Der neuartige TMAH-basierende Stripper wurde für Trockenfilme sowie flüssige Fotolacke entwickelt und weist im Vergleich zu anderen standardmäßigen TMAH-basierten Stripper eine höhere Auflösung auf. Ein weiterer Vorteil des TechniStip NF26 ist seine sehr hohe Materialverträglichkeit. Die Wahl der Additive und des Lösungsmittels macht die Mischung vollständig kompatibel mit Metallen, die bei BEOL-Interconnects und für WLP- Bumping Prozessen verwendet werden.
Hauptmerkmale:
- Sehr hohe Strippingrate (>10μm/min)
- Hohe Auflösungsrate bei Trockenfilmen
- Haltbarkeit des Bades ca. 72 Stunden @ 70°C
- vollständige Metallverträglichkeit (<2 A/min @ 60°C)
- Komplette Wassermischbarkeit
Technische Datenblätter
Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TechniStrip NF26 (TDS)
> TechniStrip NF26 (SPEC)
> Fotolack entfernen
Wenn Sie unsere Zugangsdaten noch nicht besitzen, können Sie diese hier beantragen: > Zugangsdaten beantragen
Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten
Mögliche Versandeinheiten:
- 5L Flaschen (1VE = 4 x 5L oder Einzelflaschen)
- Fässer auf Anfrage
Mögliche Reinheitsgrade:
- MOS
Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage.
In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe national auch per Express innerhalb 24 Std. liefern.
Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.
E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29