TechniStrip NF26

Trockenfilm Remover

Allgemeine Informationen

TechniStrip NF26 ist ein hocheffizienter Negativ-Fotolack-Remover der meistens zum entfernen von TSV- (Silicium-Durchkontaktierung) und für solder bumping-Masken Anwendung findet.

Der neuartige TMAH-basierende Stripper wurde für Trockenfilme sowie flüssige Fotolacke entwickelt und weist im Vergleich zu anderen standardmäßigen TMAH-basierten Stripper eine höhere Auflösung auf. Ein weiterer Vorteil des TechniStip NF26 ist seine sehr hohe Materialverträglichkeit. Die Wahl der Additive und des Lösungsmittels macht die Mischung vollständig kompatibel mit Metallen, die bei BEOL-Interconnects und für WLP- Bumping Prozessen verwendet werden.

Hauptmerkmale:

  • Sehr hohe Strippingrate (>10μm/min)
  • Hohe Auflösungsrate bei Trockenfilmen
  • Haltbarkeit des Bades ca. 72 Stunden @ 70°C
  • vollständige Metallverträglichkeit (<2 A/min @ 60°C)
  • Komplette Wassermischbarkeit

Technische Datenblätter

Das technische Datenblatt mit weiteren Informationen finden Sie hier:
> TechniStrip NF26 (TDS)

> TechniStrip NF26 (SPEC)
> Fotolack entfernen

Wenn Sie unsere Zugangsdaten noch nicht besitzen, können Sie diese hier beantragen:   > Zugangsdaten beantragen

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info

Versandeinheiten, Reinheitsgrade und Lieferzeiten

Mögliche Versandeinheiten:

  • 5 Liter Flaschen (1 VE = 4 x 5 Liter oder Einzelflaschen)
  • 30 L oder 200 L Fässer auf Anfrage

Mögliche Reinheitsgrade:

  • MOS

Unsere typischen Lieferzeiten innerhalb Deutschlands sind 1-3 Arbeitstage. Lieferzeiten in andere Länder auf Anfrage. In eiligen Fällen können wir die meisten Stoffe auch per Express innerhalb 24 liefern.

Senden Sie uns Ihre Anfrage an die unten stehende E-Mailadresse.

E-mail: sales(at)microchemicals.com
Tel.: +49 (0)731 977 343 0
Fax: +49 (0)731 977 343 29

Vielen Dank für Ihr Interesse.

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