Willkommen

Seit 2001 beliefern wir weltweit einen kontinuierlich wachsenden Kreis an Forschungsinstituten, Startups und Produktionseinrichtungen mit Chemikalien in Halbleiter-Qualität und Substraten zur Mikrostrukturierung.

Neben der ständigen Erweiterung unserer Produktpalette an Fotolacken, Lösemitteln, Ätzchemikalien, Wafern und Elektrolyten für die Galvanik sind wir stets bemüht, Ihnen als Anwender unserer Produkte mit unserem Support, unseren flexiblen Gebindegrößen und kurzen Lieferzeiten, die Arbeit im Reinraum so effizient wie möglich zu gestalten.

Bitte zögern Sie nicht, sich bei jeglichen Fragen zu Ihren Fotolithografie-Prozessen und unseren Produkten an uns zu wenden. Wir freuen uns auf eine gute Zusammenarbeit!

Ihr MicroChemicals-Team

NOBIS

1. Platz beim Arbeitsschutzpreis BW

Der Arbeitsschutzpreis Baden-Württemberg zeichnet kleine und mittlere Unternehmen aus, die sich für die Erhaltung der Gesundheit ihrer Beschäftigten engagieren. Zum ersten Mal zeichnete Arbeitsministerin Dr. Nicole Hoffmeister-Kraut kleine und mittlere Unternehmen in Baden-Württemberg mit dem NOBIS-Arbeitsschutzpreis Baden-Württemberg aus.
„Unsere Arbeitswelt sicher und gesund zu gestalten, ist zentral, um das Wohlbefinden der Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter, deren Leistungsfähigkeit und Zufriedenheit zu erhalten. Davon hängt auch die Attraktivität eines Arbeitsplatzes ab. Nur, wenn wir die Erwerbsfähigkeit der Beschäftigten bis ins hohe Lebensalter erhalten, wird Baden-Württemberg seinen Spitzenplatz als eine der erfolgreichsten Wirtschaftsregionen der Welt behaupten können“, sagte die Initiatorin des Preises im Rahmen der Online-Preisverleihung. (Quelle Stand: 19.01.2021)

Die Online-Preisverleihung

Unsere Gewinner-Idee: Ein Lager-Leitsystem

Durch die stetig wachsende Produktpalette steigt auch zunehmend die Komplexität unser Lageranforderungen und Arbeitsschutzmaßnahmen. Um die Mitarbeiter/innen durch den unüberschaubaren „Dschungel“ der Gefahrenklassen zu leiten, haben wir ein intuitives farbliches Lager-Leitsystem entwickelt. Bewusste Simplifizierung und eine optische Einteilung unserer Lagerabschnitte in verschieden farbigen Kategorien, soll gewährleisten, dass unsere Mitarbeiter jederzeit ohne fachliche Vorkenntnisse Gefahren erkennen und im Notfall entsprechende Schutzmaßnahmen ergreifen können. Des Weiteren geben die Farben Auskunft, welche Produkte zusammen gelagert werden dürfen und wo sich ein geeigneter Stellplatz für die entsprechende Chemikalie befindet. Dieses Vorgehen hat ganz nebenbei den großen Vorteil, dass jeder Palettenstellplatz optimal und ohne weiteres Risiko genutzt wird.



NEWS

January 2021

! AZ 5214E Produktionsende !

Der Hersteller Merck teilte uns mit, dass die Produktion des AZ 5214E bis Ende 2021 eingestellt werden wird (offizielle Statement). Wir wurden auch darüber informiert, dass ein ähnliches (aber nicht identisches) Produkt bereits auf dem Markt ist: Die japanische Version des AZ 5214E.

Um Sie bei der Qualifizierung des japanischen AZ 5214E ​​ zu unterstützen, können wir in naher Zukunft (voraussichtlich Februar / März 2021) Muster dieses Resists bereitstellen und Sie in technischer Hinsicht bei der Optimierung der Prozessparameter unterstützen.

Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

Die folgenden Dokumente zeigen die Vergleichsstudien des bisherigen und des japanischen AZ 5214E ​​sowohl im positiven als auch im negativen (Umkehr-) Modus.

> AZ 5214E comparison studies negative
> AZ 5214E comparison studies positive

> AZ 5214E Japan MSDS (EN)
> AZ 5214E Japan MSDS (DE)

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Dezember 2020

! PRODUKTIONSSTOPP NMP !

Seit einigen Jahren wird NMP als  reproduktionstoxisch eingestuft und der Einsatz von NMP mehr und mehr eingeschränkt und seit einigen Jahren auf der Liste besonders Besorgnis erregenden Stoffe der EU geführt. Nun hat die EU die Verschärfung des Einsatzes von NMP weiter vorangetrieben, so dass nach dem 09.05.2020, NMP nur noch unter Beachtung besonderer Vorkehrungen eingesetzt werden kann.

Technic France, unser derzeitiger, einziger Lieferant für NMP, hat sich dazu entschlossen die Produktion von NMP gänzlich einzustellen.

Wir haben einige Produkte die NMP ersetzen können im Programm, und sehr viele unserer Kunden haben bereits in der Vergangenheit aufgrund der immer problemtischer werdenden Situation bezüglich NMP Alternativen qualifiziert.
Als Alternativprodukte kommen DMSO, TechniStrip D350, NI555, P1316, P1331, MLO-07, Micro D2, AZ 100 Remover, oder auch die Stripper von Intelligent-Fluids SH5 und SVD in Betracht.

Gerne beliefern wir Sie mit Mustern möglicher Alternativen; am besten schildern Sie uns kurz den Prozess und die beteiligten (Substrat-)Materialien, damit wir mit Ihnen zusammen die besten Alternativen ausloten können.

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.de
Technische Beratung: tech(at)microchemicals.de

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Oktober 2020

AZ Remover 920 - Remover auf Basis organischer Lösungsmittel

Der Fotolackentferner AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen. Die von Merck entwickelte Mischung aus Lösungsmitteln und Additiven ist umweltfreundlich und entspricht vollständig dem REACH-Gesetzbuch der Europäischen Union.

> AZ® Remover 920 (TDS)

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Juli 2020

! AZ MIR 701 Produktänderung!

Der Hersteller des Fotolacks AZ 701 MIR (14 und 29 cPs) hat uns über eine geplante Produktänderungsbenachrichtigung (offizielles Statement) bezüglich eines PFOA- Inhaltsstoffs informiert.

Wie das unten aufgeführte Qualifikationsdokument (je eines für beide Viskositätsstufen dieses Lacks) zeigt, weist der PFOA-freie AZ 701 MIR keine signifikanten Änderungen im Vergleich zum PFOA-haltigen AZ 701 MIR auf.

Wenn Sie den PFOA-freien AZ 701 MIR testen oder qualifizieren möchten, können wir Ihnen Muster zur Verfügung stellen.

Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

> AZ MIR 701 14CPS comparison studies
> AZ MIR 701 29CPS comparison studies

> AZ MIR 701 14CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-frei MSDS (DE)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-frei MSDS (DE)

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Juni 2020

DMSO von MicroChemicals

Nun ist, neben unseren Lösemitteln Aceton und Isopropanol, auch unser MicroChemicals DMSO in ULSI Qualität erhältlich. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.

DMSO ist, durch seinen geringen Dampfdruck und seine Wasserlöslichkeit, für das Entfernen von Lacken bzw. Lift-off ein hervorragender Ersatz für das seit einiger Zeit als toxisch eingestufte NMP. Durch optionales Beimischen von Cyclopentanon oder MEK erhöht sich die Leistung des Strippers für bestimmte
Anwendungen und senkt den Schmelzpunkt von reinem DMSO deutlich ab.

Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.

> Online-Shop DMSO

> DMSO Spezifikationen
> DMSO Infoblatt

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April 2020

UNSER WAFER ONLINE SHOP

Besuchen Sie unseren neuen Wafer Online Shop.
Hier finden Sie alle Informationen zu den unterschiedlichen Wafertypen, sowie Preise und Verfügarkeiten.

Bestellen Sie ganz bequem online:
> Online Shop

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März 2019

! WICHTIGER HINWEIS ZUM AZ 826 MIF DEVELOPER !

Wir wurden kürzlich vom Hersteller Merck, dessen Vertriebspartner wir sind, davon in Kenntnis gesetzt, dass es zwei Änderung beim AZ 826 MIF Developer geben wird.
Nähere Informationen hierzu finden Sie auf der Produktseite oder in den folgenden Dokumenten:

Step 1:

> AZ 800 MIF Developers PCN Letter
> AZ 800 MIF Developer techn. Daten

Step 2:
> AZ 826 MIF Developer PCN Letter
> AZ AZ 2026 MIF vs. AZ 826 MIF

> MSDS AZ 2026 MIF (deutsch)
> MSDS AZ 2026 MIF (englisch)

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Mai 2019

Unsere neuen Stripper

Photoresist Stripper SVD und SH5

Die Stripper entfernen Fotolacke von anorganischen Oberflächen wie Silicium, Glas oder Metall (z.B. Kupfer). Der intelligent fluids® (IF) Wirkmechanismus basiert nicht auf aggressiven Lösungsvorgängen wie bei herkömmlichen Strippern. Stattdessen erfolgt eine sanfte, physikalische  Ablösung, sogar von hartnäckigen Schichten. Substrate werden dabei nicht angegriffen.

Mehr Informationen:

> Photoresist Stripper SVD
> Photoresist Stipper SH5

Technisches Datenblatt:

> Photoresist Stripper SVD (TDS)
> Photoresist Stripper SH5 (TDS)

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Juni 2018

Aceton und Isopropanol von MicroChemicals

Nun gibt es das Loesemittel zur Halbleiterprozessierung, Lösungsmittel, Aceton, Butyl Acetat, Ethanol, Ethyl Lactat, Ethyllactat, Ethyllaktat, Isopropanol, MEK, Methanol, NMP, PGMEA/ EBR, XyleneMicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.

> Online-Shop Aceton
> Online-Shop Isopropanol

> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol

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Neu: Technischer Leitfaden

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten unserer Fotochemikalien

Mit den hier aufgeführten Informationen möchten wir Ihnen einen ersten Überblick zu den grundsätzlichen Anwendungsbereichen und Kompatibilitäten
unserer Fotochemikalien geben.
Finden Sie ganz einfach die passenden Developer, Stripper und Remover für Ihren Fotolack.

Wir würden uns freuen, Sie hierzu eingehender persönlich zu beraten!

> Technischer Leitfaden

 

 

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten
> Download PDF

Unser Buch Fotolithografie 2020

Wir haben in den letzten Monaten an einer Neuauflage von unserem Fotolithografie-Buch gearbeitet. Nun gibt es von uns eine gebundene Ausgabe mit allen Themenbereichen zur Fotolithographie in einem Werk zusammengefasst. Alle Inhalte und Informationen der vorherigen Ausgabe wurden überarbeitet, aktualisiert und erneuert.

Bei Interesse an unserem Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung füllen Sie bitte das Bestellformular aus:

> Buch Bestellung

Semicon 2019 in München

Wir sagen Dank an alle Kunden, Partner und Interessenten die uns auf der Semicon und Productronica 2019 in München an unserem Stand besucht haben. Es war für uns eine sehr erfolgreiche Messe mit wichtigen und interessanten Begegnungen.

Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung
(nicht als PDF erhältlich)