Willkommen

Seit 2001 beliefern wir weltweit einen kontinuierlich wachsenden Kreis an Forschungsinstituten, Startups und Produktionseinrichtungen mit Chemikalien in Halbleiter-Qualität und Substraten zur Mikrostrukturierung.

Neben der ständigen Erweiterung unserer Produktpalette an Fotolacken, Lösemitteln, Ätzchemikalien, Wafern und Elektrolyten für die Galvanik sind wir stets bemüht, Ihnen als Anwender unserer Produkte mit unserem Support, unseren flexiblen Gebindegrößen und kurzen Lieferzeiten, die Arbeit im Reinraum so effizient wie möglich zu gestalten.

Bitte zögern Sie nicht, sich bei jeglichen Fragen zu Ihren Fotolithografie-Prozessen und unseren Produkten an uns zu wenden. Wir freuen uns auf eine gute Zusammenarbeit!

Ihr MicroChemicals-Team

! WICHTIGER HINWEIS ZUM AZ 826 MIF DEVELOPER !

Wir wurden kürzlich vom Hersteller Merck, dessen Vertriebspartner wir sind, davon in Kenntnis gesetzt, dass es zwei Änderung beim AZ 826 MIF Developer geben wird.

STEP 1:
Über die erste Änderung hatten wir Sie bereits Anfang 2019 mit dem Schreiben "AZ 800 MIF Developers PCN Letter" informiert. Diese Änderung betraf ein Surfactant, also ein Additiv, dessen Produktion von einem Rohmaterial-Lieferanten eingestellt worden ist.
Glücklicherweise konnte Merck den exakt gleichen Stoff von einem anderen Rohmaterial-Lieferanten beziehen, so dass sich diese Änderung bei Tests bei keinem unserer Kunden negativ ausgewirkt hat ("AZ 800 MIF Developer techn. Daten").

Nun möchten wir Ihnen mitteilen, dass diese Änderung nun seit Januar umgesetzt wurde und somit das "alte" Material nur noch abverkauft wird und dann der Übergang zum neuen Material statt finden wird.

Falls Sie an einem Muster interessiert sind, können Sie sich gerne an uns wenden.

STEP 2: Die Europäische Union hat in Annex XIV REACH einen Stoff gelistet der ab Januar 2021 nicht mehr eingesetzt werden darf. Der AZ 826 MIF Developer enthält diesen Stoff als Additiv. Eine Taskforce hat bei Merck an einer Alternative gearbeitet und nun ein vergleichbares Additiv gefunden und einen prozesstechnisch gleichwertigen Nachfolger für den AZ 826 MIF Developer vorgestellt: Den AZ 2026 MIF Developer.
Die offizielle Produktänderungsmitteilung "AZ 826 MIF Developer PCN Letter" haben wir Ihnen zusammen mit einer Vergleichsstudie des AZ 826 MIF mit dem AZ 2026 MIF "AZ AZ 2026 MIF vs. AZ 826 MIF" ebenfalls zu Verfügung gestellt.

Ab März 2020 werden Muster des neuen AZ 2026 MIF verfügbar sein, die wir Ihnen dann in ausreichender Menge für Ihre Tests zur Verfügung stellen können. Bitte lassen Sie uns wissen welche Menge Sie für Ihre Tests und etwaige Qualifikation benötigen, damit wir das Material für Sie entsprechend disponieren können.
Selbstverständlich sichern wir Ihnen bei jeglichen Problemen bei der Umstellung unsere volle Unterstützung zu, wir gehen aber davon aus, dass bei den allermeisten Anwendungen diese Änderung unbemerkt bleiben wird.

Bei Interesse an einem Muster schicken Sie uns Ihre Anfrage an: sales(at)microchemicals.com

Vielen Dank für Ihr Verständnis!

Step 1:

> AZ 800 MIF Developers PCN Letter
> AZ 800 MIF Developer techn. Daten

Step 2:

> AZ 826 MIF Developer PCN Letter
> AZ AZ 2026 MIF vs. AZ 826 MIF

> MSDS AZ 2026 MIF (deutsch)
> MSDS AZ 2026 MIF (englisch)

Unsere neuen Produkte

Quelle:"Metal-Lift-off" ©intelligent fluids®, intelligent-fluids.com

Unsere neuen Stripper

Photoresist Stripper SVD und SH5

Die Stripper entfernen Fotolacke von anorganischen Oberflächen wie Silicium, Glas oder Metall (z.B. Kupfer). Der intelligent fluids® (IF) Wirkmechanismus basiert nicht auf aggressiven Lösungsvorgängen wie bei herkömmlichen Strippern. Stattdessen erfolgt eine sanfte, physikalische  Ablösung, sogar von hartnäckigen Schichten. Substrate werden dabei nicht angegriffen.

Die Stripper, mit seinen hochdynamischen Strukturen, entfernen die Fotolacke in zwei Schritten:

● Unterwanderung und Fragmentierung
● Umhüllung und Abtrag der Fragmente

Negativlacke werden als größere Fragmente abgelöst und können herausgefiltert werden. Fragmente von Positivlacken werden vom Fluid  aufgenommen und inkorporiert.

Vorteile:

● Wasserbasiert
● pH Haut-neutral (pH 5,5 – 6,5)
● nicht toxisch, nicht brennbar
● sichere Handhabung
● dermatologisch als „Sehr Gut“ befunden
● leicht biologisch abbaubar

Mehr Informationen:

> Photoresist Stripper SVD
> Photoresist Stipper SH5

Technisches Datenblatt:

Nähere Informationen hierzu finden Sie in den folgenden Datenblättern:
> Photoresist Stripper SVD (TDS)
> Photoresist Stripper SH5 (TDS)

JETZT ERHÄLTLICH

Aceton und Isopropanol von MicroChemicals

Nun gibt es das MicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.

> Aceton
> Isopropanol

> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol

Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren. > sales(at)microchemcials.com

Neu: Technischer Leitfaden

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten unserer Fotochemikalien

Mit den hier aufgeführten Informationen möchten wir Ihnen einen ersten Überblick zu den grundsätzlichen Anwendungsbereichen und Kompatibilitäten
unserer Fotochemikalien geben.
Finden Sie ganz einfach die passenden Developer, Stripper und Remover für Ihren Fotolack.

Wir würden uns freuen, Sie hierzu eingehender persönlich zu beraten!

> Technischer Leitfaden

 

 

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten
> Download PDF

Unser Buch Fotolithographie 2017

Wir haben in den letzten Monaten an einer Neuauflage unserer Broschüren gearbeitet. Zum ersten Mal gibt es nun von uns eine gebundene Ausgabe mit allen Themenbereichen zur Fotolithographie in einem Werk zusammengefasst. Alle Inhalte und Informationen der vorherigen Ausgabe wurden überarbeitet, aktualisiert und erneuert.

Bei Interesse an unserem Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung füllen Sie bitte das Bestellformular aus:

> Buch Bestellung

 

Semicon 2018 in München

Wir sagen Dank an alle Kunden, Partner und Interessenten die uns auf der Semicon und Productronica 2018 in München an unserem Stand besucht haben. Es war für uns eine sehr erfolgreiche Messe mit wichtigen und interessanten Begegnungen.

Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung
(nicht als PDF erhältlich)