WILLKOMMEN
Seit 2001 beliefern wir weltweit einen kontinuierlich wachsenden Kreis an Forschungsinstituten, Startups und Produktionseinrichtungen mit Chemikalien in Halbleiter-Qualität und Substraten zur Mikrostrukturierung.
Neben der ständigen Erweiterung unserer Produktpalette an Fotolacken, Lösemitteln, Ätzchemikalien, Wafern und Elektrolyten für die Galvanik sind wir stets bemüht, Ihnen als Anwender unserer Produkte mit unserem Support, unseren flexiblen Gebindegrößen und kurzen Lieferzeiten, die Arbeit im Reinraum so effizient wie möglich zu gestalten.
Bitte zögern Sie nicht, sich bei jeglichen Fragen zu Ihren Fotolithografie-Prozessen und unseren Produkten an uns zu wenden. Wir freuen uns auf eine gute Zusammenarbeit!
Ihr MicroChemicals-Team
NOBIS
1. Platz beim Arbeitsschutzpreis BW
Der Arbeitsschutzpreis Baden-Württemberg zeichnet kleine und mittlere Unternehmen aus, die sich für die Erhaltung der Gesundheit ihrer Beschäftigten engagieren. Zum ersten Mal zeichnete Arbeitsministerin Dr. Nicole Hoffmeister-Kraut kleine und mittlere Unternehmen in Baden-Württemberg mit dem NOBIS-Arbeitsschutzpreis Baden-Württemberg aus.
„Unsere Arbeitswelt sicher und gesund zu gestalten, ist zentral, um das Wohlbefinden der Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter, deren Leistungsfähigkeit und Zufriedenheit zu erhalten. Davon hängt auch die Attraktivität eines Arbeitsplatzes ab. Nur, wenn wir die Erwerbsfähigkeit der Beschäftigten bis ins hohe Lebensalter erhalten, wird Baden-Württemberg seinen Spitzenplatz als eine der erfolgreichsten Wirtschaftsregionen der Welt behaupten können“, sagte die Initiatorin des Preises im Rahmen der Online-Preisverleihung. (Quelle Stand: 19.01.2021)
Die Online-Preisverleihung
Unsere Gewinner-Idee: Ein Lager-Leitsystem
Durch die stetig wachsende Produktpalette steigt auch zunehmend die Komplexität unser Lageranforderungen und Arbeitsschutzmaßnahmen. Um die Mitarbeiter/innen durch den unüberschaubaren „Dschungel“ der Gefahrenklassen zu leiten, haben wir ein intuitives farbliches Lager-Leitsystem entwickelt. Bewusste Simplifizierung und eine optische Einteilung unserer Lagerabschnitte in verschieden farbigen Kategorien, soll gewährleisten, dass unsere Mitarbeiter jederzeit ohne fachliche Vorkenntnisse Gefahren erkennen und im Notfall entsprechende Schutzmaßnahmen ergreifen können. Des Weiteren geben die Farben Auskunft, welche Produkte zusammen gelagert werden dürfen und wo sich ein geeigneter Stellplatz für die entsprechende Chemikalie befindet. Dieses Vorgehen hat ganz nebenbei den großen Vorteil, dass jeder Palettenstellplatz optimal und ohne weiteres Risiko genutzt wird.
NEWS
Juli 2021
JETZT ERHÄLTLICH
MEK von MicroChemicals
Wir erweitern erneut unser Portfolio. Zu unseren Lösemitteln Aceton, Isopropanol und DMSO kommt nun auch unser MicroChemicals MEK in ULSI Qualität hinzu. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.
> Infoblatt
> Spezifikation MEK
Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.
________________
Juli 2021
Neue Produkte:
- AZ® 400K 1:4 MIC basiert auf gepuffertem KOH und ist nun als bereits fertige vorverdünnte Version 1:4 erhältlich.
- AZ® 2033 MIF ist ein kräftigerer Entwickler verglichen mit dem AZ® 2026 MIF und ein Nachfolger für den AZ® 826 MIF. Der AZ® 2033 MIF ist mit 3,00 % TMAH in H2O mit zusätzlichen Netzmitteln zur raschen und homogenen Benetzung des Substrates und weiteren Additiven zur Entfernung schwer löslicher Lackbestandteile (Rückstände bei bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines etwas höheren Dunkelabtrags.
- Developer K45 ist eine hochkonzentrierte Kaliumcarbonatlösung, die für die Entwicklung aller wässrigen Trockenlacke eingesetzt werden kann.
- AZ® P4K-AP ist ein dickerer Nachfolger für den AZ® 520D. Der Schutzlack ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist.
- AZ® LNR-003 ist für alle Anwender eine Option, die mit dem Japanischen 5214E nicht arbeiten können, oder auch eine Alternative für die AZ® nLOF 2000 und AZ® nLOF 5500 Serie benötigen. Er ist ein Negativlack für Schichtdicken von ca. 3 - 5 µm, verdünnt bis 1 µm, der auch bei kleinen Lackschichtdicken einen über die Belichtungsdosis einstellbaren, auch sehr starken Unterschnitt für anspruchsvolle Lift-off Anwendungen ermöglich.
- AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen.
________________
Juli 2021
! Ordyl FP 700 wird eingestellt !
Der Hersteller hat uns bedauerlicherweise darüber informiert, dass die Produktion des Trockenfilms Ordyl FP 700 eingestellt wird. Als Alternative empfehlen wir den Trockenfilm Ordyl FP 400 mehr Informationen finden Sie hier.
Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.
Technische Hilfe: tech@microchemicals.com
________________
Februar 2021
! AZ 520 D Produktionsende !
Mit dem beigefügten PCN teilte Merck uns bedauerlicherweise mit, dass die Produktion des Schutzlacks AZ 520 D spätestens Ende 2021 enden wird.
Grundsätzlich ist der AZ 520 D ein Fotolack ohne Fotoinitiator, was es vergleichbar einfach machen sollte, eine geeignete Alternative zu finden. Wir würden uns freuen, wenn Sie sich mit uns in Verbindung setzen, um Ihre Anforderungen an einen Schutzlack zu diskutieren und einen anderen Resist aus unserem Portfolio zu finden, bei dem es sich entweder um einen kostengünstigen Standard-Fotolack oder einen anderen PAC-freien Lack handeln kann.
Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
________________
Januar 2021
! AZ 5214E Produktionsende !
Der Hersteller Merck teilte uns mit, dass die Produktion des AZ 5214E bis Ende 2021 eingestellt werden wird (offizielle Statement). Wir wurden auch darüber informiert, dass ein ähnliches (aber nicht identisches) Produkt bereits auf dem Markt ist: Die japanische Version des AZ 5214E.
Um Sie bei der Qualifizierung des japanischen AZ 5214E zu unterstützen, können wir in naher Zukunft (voraussichtlich Februar / März 2021) Muster dieses Resists bereitstellen und Sie in technischer Hinsicht bei der Optimierung der Prozessparameter unterstützen.
Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!
Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
Die folgenden Dokumente zeigen die Vergleichsstudien des bisherigen und des japanischen AZ 5214E sowohl im positiven als auch im negativen (Umkehr-) Modus.
> AZ 5214E comparison studies negative
> AZ 5214E comparison studies positive
> AZ 5214E Japan MSDS (EN)
> AZ 5214E Japan MSDS (DE)
________________
Dezember 2020
! PRODUKTIONSSTOPP NMP !
Seit einigen Jahren wird NMP als reproduktionstoxisch eingestuft und der Einsatz von NMP mehr und mehr eingeschränkt und seit einigen Jahren auf der Liste besonders Besorgnis erregenden Stoffe der EU geführt. Nun hat die EU die Verschärfung des Einsatzes von NMP weiter vorangetrieben, so dass nach dem 09.05.2020, NMP nur noch unter Beachtung besonderer Vorkehrungen eingesetzt werden kann.
Technic France, unser derzeitiger, einziger Lieferant für NMP, hat sich dazu entschlossen die Produktion von NMP gänzlich einzustellen.
Wir haben einige Produkte die NMP ersetzen können im Programm, und sehr viele unserer Kunden haben bereits in der Vergangenheit aufgrund der immer problemtischer werdenden Situation bezüglich NMP Alternativen qualifiziert.
Als Alternativprodukte kommen DMSO, TechniStrip D350, NI555, P1316, P1331, MLO-07, Micro D2, AZ 100 Remover, oder auch die Stripper von Intelligent-Fluids SH5 und SVD in Betracht.
Gerne beliefern wir Sie mit Mustern möglicher Alternativen; am besten schildern Sie uns kurz den Prozess und die beteiligten (Substrat-)Materialien, damit wir mit Ihnen zusammen die besten Alternativen ausloten können.
Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
________________
Oktober 2020
AZ Remover 920 - Remover auf Basis organischer Lösungsmittel
Der Fotolackentferner AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen. Die von Merck entwickelte Mischung aus Lösungsmitteln und Additiven ist umweltfreundlich und entspricht vollständig dem REACH-Gesetzbuch der Europäischen Union.
________________
Juli 2020
! AZ MIR 701 Produktänderung!
Der Hersteller des Fotolacks AZ 701 MIR (14 und 29 cPs) hat uns über eine geplante Produktänderungsbenachrichtigung (offizielles Statement) bezüglich eines PFOA- Inhaltsstoffs informiert.
Wie das unten aufgeführte Qualifikationsdokument (je eines für beide Viskositätsstufen dieses Lacks) zeigt, weist der PFOA-freie AZ 701 MIR keine signifikanten Änderungen im Vergleich zum PFOA-haltigen AZ 701 MIR auf.
Wenn Sie den PFOA-freien AZ 701 MIR testen oder qualifizieren möchten, können wir Ihnen Muster zur Verfügung stellen.
Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!
Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com
> AZ MIR 701 14CPS comparison studies
> AZ MIR 701 29CPS comparison studies
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-frei MSDS (DE)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-frei MSDS (DE)
________________
Juni 2020
DMSO von MicroChemicals
Nun ist, neben unseren Lösemitteln Aceton und Isopropanol, auch unser MicroChemicals DMSO in ULSI Qualität erhältlich. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.
DMSO ist, durch seinen geringen Dampfdruck und seine Wasserlöslichkeit, für das Entfernen von Lacken bzw. Lift-off ein hervorragender Ersatz für das seit einiger Zeit als toxisch eingestufte NMP. Durch optionales Beimischen von Cyclopentanon oder MEK erhöht sich die Leistung des Strippers für bestimmte
Anwendungen und senkt den Schmelzpunkt von reinem DMSO deutlich ab.
Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.
> DMSO Spezifikationen
> DMSO Infoblatt
________________
April 2020
UNSER WAFER ONLINE SHOP
Besuchen Sie unseren neuen Wafer Online Shop.
Hier finden Sie alle Informationen zu den unterschiedlichen Wafertypen, sowie Preise und Verfügarkeiten.
Bestellen Sie ganz bequem online:
> Online Shop
________________
Juni 2018
Aceton und Isopropanol von MicroChemicals
Nun gibt es das MicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.
> Online-Shop Aceton
> Online-Shop Isopropanol
> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol
________________
Neu: Technischer Leitfaden
Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten unserer Fotochemikalien
Mit den hier aufgeführten Informationen möchten wir Ihnen einen ersten Überblick zu den grundsätzlichen Anwendungsbereichen und Kompatibilitäten
unserer Fotochemikalien geben.
Finden Sie ganz einfach die passenden Developer, Stripper und Remover für Ihren Fotolack.
Wir würden uns freuen, Sie hierzu eingehender persönlich zu beraten!
Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten
> Download PDF
Unser Buch Fotolithografie 2020
Wir haben in den letzten Monaten an einer Neuauflage von unserem Fotolithografie-Buch gearbeitet. Nun gibt es von uns eine gebundene Ausgabe mit allen Themenbereichen zur Fotolithographie in einem Werk zusammengefasst. Alle Inhalte und Informationen der vorherigen Ausgabe wurden überarbeitet, aktualisiert und erneuert.
Bei Interesse an unserem Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung füllen Sie bitte das Bestellformular aus:
Semicon 2019 in München
Wir sagen Dank an alle Kunden, Partner und Interessenten die uns auf der Semicon und Productronica 2019 in München an unserem Stand besucht haben. Es war für uns eine sehr erfolgreiche Messe mit wichtigen und interessanten Begegnungen.
