Willkommen

Seit 2001 beliefern wir weltweit einen kontinuierlich wachsenden Kreis an Forschungsinstituten, Startups und Produktionseinrichtungen mit Chemikalien in Halbleiter-Qualität und Substraten zur Mikrostrukturierung.

Neben der ständigen Erweiterung unserer Produktpalette an Fotolacken, Lösemitteln, Ätzchemikalien, Wafern und Elektrolyten für die Galvanik sind wir stets bemüht, Ihnen als Anwender unserer Produkte mit unserem Support, unseren flexiblen Gebindegrößen und kurzen Lieferzeiten, die Arbeit im Reinraum so effizient wie möglich zu gestalten.

Bitte zögern Sie nicht, sich bei jeglichen Fragen zu Ihren Fotolithografie-Prozessen und unseren Produkten an uns zu wenden. Wir freuen uns auf eine gute Zusammenarbeit!

Ihr MicroChemicals-Team

NEWS

Oktober 2020

AZ Remover 920 - Remover auf Basis organischer Lösungsmittel

Der Fotolackentferner AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen. Die von Merck entwickelte Mischung aus Lösungsmitteln und Additiven ist umweltfreundlich und entspricht vollständig dem REACH-Gesetzbuch der Europäischen Union.

> AZ® Remover 920 (TDS)

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Juni 2020

DMSO von MicroChemicals

Nun ist, neben unseren Lösemitteln Aceton und Isopropanol, auch unser MicroChemicals DMSO in ULSI Qualität erhältlich. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.

DMSO ist, durch seinen geringen Dampfdruck und seine Wasserlöslichkeit, für das Entfernen von Lacken bzw. Lift-off ein hervorragender Ersatz für das seit einiger Zeit als toxisch eingestufte NMP. Durch optionales Beimischen von Cyclopentanon oder MEK erhöht sich die Leistung des Strippers für bestimmte
Anwendungen und senkt den Schmelzpunkt von reinem DMSO deutlich ab.

Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.

> Online-Shop DMSO

> DMSO Spezifikationen
> DMSO Infoblatt

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April 2020

UNSER WAFER ONLINE SHOP

Besuchen Sie unseren neuen Wafer Online Shop.
Hier finden Sie alle Informationen zu den unterschiedlichen Wafertypen, sowie Preise und Verfügarkeiten.

Bestellen Sie ganz bequem online:
> Online Shop

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März 2019

! WICHTIGER HINWEIS ZUM AZ 826 MIF DEVELOPER !

Wir wurden kürzlich vom Hersteller Merck, dessen Vertriebspartner wir sind, davon in Kenntnis gesetzt, dass es zwei Änderung beim AZ 826 MIF Developer geben wird.
Nähere Informationen hierzu finden Sie auf der Produktseite oder in den folgenden Dokumenten:

Step 1:

> AZ 800 MIF Developers PCN Letter
> AZ 800 MIF Developer techn. Daten

Step 2:

> AZ 826 MIF Developer PCN Letter
> AZ AZ 2026 MIF vs. AZ 826 MIF

> MSDS AZ 2026 MIF (deutsch)
> MSDS AZ 2026 MIF (englisch)

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Mai 2019

Unsere neuen Stripper

Photoresist Stripper SVD und SH5

Die Stripper entfernen Fotolacke von anorganischen Oberflächen wie Silicium, Glas oder Metall (z.B. Kupfer). Der intelligent fluids® (IF) Wirkmechanismus basiert nicht auf aggressiven Lösungsvorgängen wie bei herkömmlichen Strippern. Stattdessen erfolgt eine sanfte, physikalische  Ablösung, sogar von hartnäckigen Schichten. Substrate werden dabei nicht angegriffen.

Mehr Informationen:

> Photoresist Stripper SVD
> Photoresist Stipper SH5

Technisches Datenblatt:

> Photoresist Stripper SVD (TDS)
> Photoresist Stripper SH5 (TDS)

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Juni 2018

Aceton und Isopropanol von MicroChemicals

Nun gibt es das Loesemittel zur Halbleiterprozessierung, Lösungsmittel, Aceton, Butyl Acetat, Ethanol, Ethyl Lactat, Ethyllactat, Ethyllaktat, Isopropanol, MEK, Methanol, NMP, PGMEA/ EBR, XyleneMicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.

> Online-Shop Aceton
> Online-Shop Isopropanol

> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol

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Neu: Technischer Leitfaden

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten unserer Fotochemikalien

Mit den hier aufgeführten Informationen möchten wir Ihnen einen ersten Überblick zu den grundsätzlichen Anwendungsbereichen und Kompatibilitäten
unserer Fotochemikalien geben.
Finden Sie ganz einfach die passenden Developer, Stripper und Remover für Ihren Fotolack.

Wir würden uns freuen, Sie hierzu eingehender persönlich zu beraten!

> Technischer Leitfaden

 

 

Anwendungsbereiche und Kompatibilitäten
> Download PDF

Unser Buch Fotolithografie 2020

Wir haben in den letzten Monaten an einer Neuauflage von unserem Fotolithografie-Buch gearbeitet. Nun gibt es von uns eine gebundene Ausgabe mit allen Themenbereichen zur Fotolithographie in einem Werk zusammengefasst. Alle Inhalte und Informationen der vorherigen Ausgabe wurden überarbeitet, aktualisiert und erneuert.

Bei Interesse an unserem Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung füllen Sie bitte das Bestellformular aus:

> Buch Bestellung

Semicon 2019 in München

Wir sagen Dank an alle Kunden, Partner und Interessenten die uns auf der Semicon und Productronica 2019 in München an unserem Stand besucht haben. Es war für uns eine sehr erfolgreiche Messe mit wichtigen und interessanten Begegnungen.

Fotolithografie - Grundlagen der Mikrostrukturierung
(nicht als PDF erhältlich)