AX 100 - 5.00 l
Beschreibung
Produktinformationen "AX 100 - 5.00 l"
AX 100
Aktivator
Allgemeine Informationen
AX 100 ist eine saure Lösung zur Aktivierung und Vorbehandlung von Keimschichten und metallischen Oberflächen für die Galvanik, auf denen eine direkte Metallisierung Probleme hinsichtlich der Haftfestigkeit verursachen kann. Dies gilt z.B. für die galvanische Abscheidung von Au auf Ni-Oberflächen oder die direkte galvanische Abscheidung auf Ti- oder TiW-Schichten.
AX 100 aktiviert metallische Oberflächen vor der galvanischen Abscheidung und ermöglicht eine bessere Haftfestigkeit von galvanischen Schichten auf metallischen Oberflächen, die zur Oxidation neigen.
Häufige Anwendungsgebiete sind die Halbleiterfertigung und die Mikrosystemtechnik.
Produkteigenschaften
- Geringer oder kein Ätzangriff auf metallischen Oberflächen
- Kompatibel mit vielen Materialien, z. B. mit den in der Galvanikindustrie üblichen Metallen
- Kompatibel mit Resist Maskierung
- Keine giftige Substanz und leicht zu handhaben
- Mäßige Betriebstemperatur von etwa 40°C
Selektivität
AX 100 ist mit den folgenden Materialien kompatibel/selektiv:
- Resists: gängige Novolak als Maskierungsmittel Resist (z.B. AZ® Photoresist)
- Metalle: kein Angriff auf Ni, Ti, TiW, Ta, Cu
- Halbleitermaterialien: Si, SiO2, Si3N4
Die Angaben zur Selektivität und Kompatibilität sind Herstellerangaben und erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Bitte kontaktiere uns für weitere Details.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AX 100 englisch
Sicherheitsdatenblatt AX 100 deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AX 100 englisch
Anwendungshinweise:
Weitere Informationen zur Verarbeitung