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AZ Barli II 90- 3.785 l

AZ ® BARLiTM II 90 ist eine untere Antireflexionsschicht zur Verwendung auf hochreflektierenden Oberflächen in der Halbleiterindustrie.

Beschreibung

Produktinformationen "AZ Barli II 90- 3.785 l"

AZ ® BARLiTM II 90

Antireflective Coating

 

General Information

AZ® BARLiTM II is a bottom antireflective layer coating for use on highly reflective surfaces in the semiconductor industry. It is designed to work with as antireflective layer between photoresist and substrate and is optimized for i-line exposure tools. Upon completion of the lithographic process, AZ® BARLiTM II is patterned in a dry-etch process.

Product Properties

AZ®BARLiTM II coating material is formulated in photoresist-compatible solvents to simplify the EBR process and to be both environmental and user friendly. AZ®BARLiTM II is tailor-made to yield the near-optimum values for refractive indices (n and k) for i-line lithography, which ensures minimum reflectivity and maximum swing reduction for photoresist layers. Composed of highly absorptive polymer-bound dyes, this material provides excellent coating uniformity and step coverage. AZ®BARLiTM II shows high etch selectivity (comparable to AZ®BARLiTM) and high thermal stability up to 230°C. It does not show intermixing with photoresist when the bake temperature is higher than 180°C. AZ®BARLiTM II is available in two thickness grades, 900 A and 2000 A, in order to provide optimum film thickness for the first and the second swing minimum respectively at about 3000 rpm spin speed.

Developers

No restriction.

Removers

Dry Etching.

Edge Bead Removal

We recommend AZ® EBR 70/30 for edge bead removal for best performance.

Further Information

MSDS:
Safety Data Sheet AZ®BARLiTM II 90 Photoresist english
Sicherheitsdatenblatt AZ®BARLiTM II 90 Fotolack german

TDS:
Technical Data Sheet AZ®BARLiTM II Photoresist english
Info AZ®BARLiTM II Photoresist english
Info AZ®BARLiTM II Processing english

Application Notes:
Further Information about Photoresist Processing

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