Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren.

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NEWS

Juli 2021

JETZT ERHÄLTLICH

MEK von MicroChemicals

Wir erweitern erneut unser Portfolio. Zu unseren Lösemitteln Aceton, Isopropanol und DMSO kommt nun auch unser MicroChemicals MEK in ULSI Qualität hinzu. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.

> Online-Shop MEK

> Infoblatt
> Spezifikation MEK

Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.

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Juli 2021

Neue Produkte:

- AZ® 400K 1:4 MIC basiert auf gepuffertem KOH und ist nun als bereits fertige vorverdünnte Version 1:4 erhältlich.

- AZ® 2033 MIF  ist ein kräftigerer Entwickler verglichen mit dem AZ® 2026 MIF und ein Nachfolger für den AZ® 826 MIF. Der AZ® 2033 MIF ist mit 3,00 % TMAH in H2O mit zusätzlichen Netzmitteln zur raschen und homogenen Benetzung des Substrates und weiteren Additiven zur Entfernung schwer löslicher Lackbestandteile (Rückstände bei bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines etwas höheren Dunkelabtrags.

Developer K45 ist eine hochkonzentrierte Kaliumcarbonatlösung, die für die Entwicklung aller wässrigen Trockenlacke eingesetzt werden kann.

- AZ® P4K-AP ist ein dickerer Nachfolger für den AZ® 520D. Der Schutzlack ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist.

- AZ® LNR-003 ist für alle Anwender eine Option, die mit dem Japanischen 5214E nicht arbeiten können, oder auch eine Alternative für die AZ® nLOF 2000 und AZ® nLOF 5500 Serie benötigen. Er ist ein Negativlack für Schichtdicken von ca. 3 - 5 µm, verdünnt bis 1 µm, der auch bei kleinen Lackschichtdicken einen über die Belichtungsdosis einstellbaren, auch sehr starken Unterschnitt für anspruchsvolle Lift-off Anwendungen ermöglich.

- AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen.

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Juli 2021

! Ordyl FP 700 wird eingestellt !

Der Hersteller hat uns bedauerlicherweise darüber informiert, dass die Produktion des Trockenfilms Ordyl FP 700 eingestellt wird. Als Alternative empfehlen wir den Trockenfilm Ordyl FP 400 mehr Informationen finden Sie hier.

Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.

Technische Hilfe: tech@microchemicals.com

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Februar 2021

! AZ 520 D Produktionsende !

Mit dem beigefügten PCN teilte Merck uns bedauerlicherweise mit, dass die Produktion des Schutzlacks AZ 520 D spätestens Ende 2021 enden wird.
Grundsätzlich ist der AZ 520 D ein Fotolack ohne Fotoinitiator, was es vergleichbar einfach machen sollte, eine geeignete Alternative zu finden. Wir würden uns freuen, wenn Sie sich mit uns in Verbindung setzen, um Ihre Anforderungen an einen Schutzlack zu diskutieren und einen anderen Resist aus unserem Portfolio zu finden, bei dem es sich entweder um einen kostengünstigen Standard-Fotolack oder einen anderen PAC-freien Lack handeln kann.

Wir bedauern diese Entscheidung des Herstellers sehr und werden unser Bestes tun, um Ihnen einen reibungslosen Transfer Ihrer Prozesse auf einen alternativen Lack zu ermöglichen.

Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

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Januar 2021

! AZ 5214E Produktionsende !

Der Hersteller Merck teilte uns mit, dass die Produktion des AZ 5214E bis Ende 2021 eingestellt werden wird (offizielle Statement). Wir wurden auch darüber informiert, dass ein ähnliches (aber nicht identisches) Produkt bereits auf dem Markt ist: Die japanische Version des AZ 5214E.

Um Sie bei der Qualifizierung des japanischen AZ 5214E ​​ zu unterstützen, können wir in naher Zukunft (voraussichtlich Februar / März 2021) Muster dieses Resists bereitstellen und Sie in technischer Hinsicht bei der Optimierung der Prozessparameter unterstützen.

Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

Die folgenden Dokumente zeigen die Vergleichsstudien des bisherigen und des japanischen AZ 5214E ​​sowohl im positiven als auch im negativen (Umkehr-) Modus.

> AZ 5214E comparison studies negative
> AZ 5214E comparison studies positive

> AZ 5214E Japan MSDS (EN)
> AZ 5214E Japan MSDS (DE)

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Dezember 2020

! PRODUKTIONSSTOPP NMP !

Seit einigen Jahren wird NMP als reproduktionstoxisch eingestuft und der Einsatz von NMP mehr und mehr eingeschränkt und seit einigen Jahren auf der Liste besonders Besorgnis erregenden Stoffe der EU geführt. Nun hat die EU die Verschärfung des Einsatzes von NMP weiter vorangetrieben, so dass nach dem 09.05.2020, NMP nur noch unter Beachtung besonderer Vorkehrungen eingesetzt werden kann.

Technic France, unser derzeitiger, einziger Lieferant für NMP, hat sich dazu entschlossen die Produktion von NMP gänzlich einzustellen.

Wir haben einige Produkte die NMP ersetzen können im Programm, und sehr viele unserer Kunden haben bereits in der Vergangenheit aufgrund der immer problemtischer werdenden Situation bezüglich NMP Alternativen qualifiziert.
Als Alternativprodukte kommen DMSO, TechniStrip D350, NI555, P1316, P1331, MLO-07, Micro D2, AZ 100 Remover, oder auch die Stripper von Intelligent-Fluids SH5 und SVD in Betracht.

Gerne beliefern wir Sie mit Mustern möglicher Alternativen; am besten schildern Sie uns kurz den Prozess und die beteiligten (Substrat-)Materialien, damit wir mit Ihnen zusammen die besten Alternativen ausloten können.

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

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Oktober 2020

AZ Remover 920 - Remover auf Basis organischer Lösungsmittel

Der Fotolackentferner AZ® Remover 920 basiert auf organischen Lösungsmitteln und wurde für die schnelle Delaminierung und Auflösung von Fotolacken entwickelt und bietet gleichzeitig eine breite Kompatibilität mit Substratmaterialien und Metallen. Die von Merck entwickelte Mischung aus Lösungsmitteln und Additiven ist umweltfreundlich und entspricht vollständig dem REACH-Gesetzbuch der Europäischen Union.

> AZ® Remover 920 (TDS)

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Juli 2020

! AZ MIR 701 Produktänderung!

Der Hersteller des Fotolacks AZ 701 MIR (14 und 29 cPs) hat uns über eine geplante Produktänderungsbenachrichtigung (offizielles Statement) bezüglich eines PFOA- Inhaltsstoffs informiert.

Wie das unten aufgeführte Qualifikationsdokument (je eines für beide Viskositätsstufen dieses Lacks) zeigt, weist der PFOA-freie AZ 701 MIR keine signifikanten Änderungen im Vergleich zum PFOA-haltigen AZ 701 MIR auf.

Wenn Sie den PFOA-freien AZ 701 MIR testen oder qualifizieren möchten, können wir Ihnen Muster zur Verfügung stellen.

Bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren!

Musteranfragen an: sales(at)microchemicals.com
Technische Anfragen an: tech(at)microchemicals.com

> AZ MIR 701 14CPS comparison studies
> AZ MIR 701 29CPS comparison studies

> AZ MIR 701 14CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 14CPS PFOA-frei MSDS (DE)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-free MSDS (EN)
> AZ MIR 701 29CPS PFOA-frei MSDS (DE)

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Juni 2020

DMSO von MicroChemicals

Nun ist, neben unseren Lösemitteln Aceton und Isopropanol, auch unser MicroChemicals DMSO in ULSI Qualität erhältlich. Dieser Reinststoff ist in 2,5 L Gebinden verfügbar und kann sowohl als Einzelflasche sowie auch in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden.

DMSO ist, durch seinen geringen Dampfdruck und seine Wasserlöslichkeit, für das Entfernen von Lacken bzw. Lift-off ein hervorragender Ersatz für das seit einiger Zeit als toxisch eingestufte NMP. Durch optionales Beimischen von Cyclopentanon oder MEK erhöht sich die Leistung des Strippers für bestimmte
Anwendungen und senkt den Schmelzpunkt von reinem DMSO deutlich ab.

Bei Interesse stellen wir ihnen gerne ein Muster für Testzwecke zur Verfügung.

> Online-Shop DMSO

> DMSO Spezifikationen
> DMSO Infoblatt

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April 2020

UNSER WAFER ONLINE SHOP

Besuchen Sie unseren neuen Wafer Online Shop.
Hier finden Sie alle Informationen zu den unterschiedlichen Wafertypen, sowie Preise und Verfügarkeiten.

Bestellen Sie ganz bequem online:
> Online Shop

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März 2019

! WICHTIGER HINWEIS ZUM AZ 826 MIF DEVELOPER !

Wir wurden kürzlich vom Hersteller Merck, dessen Vertriebspartner wir sind, davon in Kenntnis gesetzt, dass es zwei Änderung beim AZ 826 MIF Developer geben wird.
Nähere Informationen hierzu finden Sie auf der Produktseite oder in den folgenden Dokumenten:

Step 1:

> AZ 800 MIF Developers PCN Letter
> AZ 800 MIF Developer techn. Daten

Step 2:
> AZ 826 MIF Developer PCN Letter
> AZ AZ 2026 MIF vs. AZ 826 MIF

> MSDS AZ 2026 MIF (deutsch)
> MSDS AZ 2026 MIF (englisch)

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Mai 2019

Unsere neuen Stripper

Photoresist Stripper SVD und SH5

Die Stripper entfernen Fotolacke von anorganischen Oberflächen wie Silicium, Glas oder Metall (z.B. Kupfer). Der intelligent fluids® (IF) Wirkmechanismus basiert nicht auf aggressiven Lösungsvorgängen wie bei herkömmlichen Strippern. Stattdessen erfolgt eine sanfte, physikalische  Ablösung, sogar von hartnäckigen Schichten. Substrate werden dabei nicht angegriffen.

Mehr Informationen:

> Photoresist Stripper SVD
> Photoresist Stipper SH5

Technisches Datenblatt:

> Photoresist Stripper SVD (TDS)
> Photoresist Stripper SH5 (TDS)

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Juni 2018

Aceton und Isopropanol von MicroChemicals

Nun gibt es das MicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.

> Online-Shop Aceton
> Online-Shop Isopropanol

> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol

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Fotolacke:

AZ® 12XT

Chemisch verstärkter Positiv-Dicklack mit sehr hoher Photospeed und großem Aspektverhältnis, durch seine Stabilität geeignet z. B. als Lackmaske für die galvanische Abscheidung oder RIE Prozesse. Auch bei hohen Schichtdicken benötigt der AZ® 12XT vergleichsweise kurze Softbakezeiten, keine Rehydrierung vor der Belichtung, und dank seiner chemischen Verstärkung nur geringe Lichtdosen bei gleichzeitig hoher Entwicklungsrate.

AZ® 15nXT (115 und 450 CPS)

Dünnere Version des AZ® 15nXT (450 cPs). Ein Negativlack für ca. 3 - 5 µm Lackschichtdicke für Anwendungen wie die galvanische Abscheidung oder Ätzprozesse welche eine exzellente Lackhaftung und steile Lackflanken erfordern. AZ® 15nXT ist kompatibel zu Cu-Substraten und anderen Metallen sowie TMAH-basierten Entwicklern.

> AZ® 15nXT (115 CPS)
> AZ® 15nXT (450 CPS)

AZ® 5209 E

Dünnere Version des AZ® 5214 E. Ein speziell für hochauflösende Lift-off Anwendungen optimierter Umkehrlack, gekennzeichnet durch eine verbesserte Lackhaftung und thermische Stabilität.

> AZ® 5209 E

AZ® MIR 701 (14 and 29 cPs)

Dickere Version des AZ® MIR 701 (14 cPs) für 2 - 3 µm Lackschichtdicke. Dank seiner hohen thermischen Stabilität als Lackmaske für hochauflösende Trockenätzprozesse eine geeignete Alternative für die eingestellte AZ® 6600 Lackserie.

> AZ® MIR 701

AZ® nLOF 5510

Dünner, hochauflösender thermisch stabiler Negativlack optimiert für Single-layer Lift-off Prozesse sowie als Lackmaske für RIE oder die Ionenimplantation. Kompatibel mit TMAH-basierten Entwicklern.

AZ® P4110, AZ® P4903 and AZ® P4620

Eine Serie an Positiv-Dicklacken, aufgrund ihre verringerte Fotoinitiator-Konzentration im Lackschichtdickenbereich von ca. 3 - 30 µm prozessierbar. Durch eine verbesserte Haftung auf allen üblichen Substratmaterialien vor allem geeignet für nasschemische Prozesse wie Ätzen oder die galvanische Abscheidung.

> AZ® P4110
> AZ® P4903

AZ® TFP 650 F5

Positivlack mit überragender Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen.

> AZ® TFP 650 F5

AZ® TX1311 1G

Positivlack mit überragender Photospeed und exzellentem Kontrast bei gleichzeitig sehr guter Lackhaftug auch unter anspruchsvollen Ätzbedingungen

Stripper und Remover:

TechniClean™ CA25

Remover für  post etch residue (PER) removal. Äußerst effizient beim selektiven Entfernen organo-metallischer Oxide von Al, Cu, Ti, TiN, W und Ni.

TechniStrip™ NF52

Sehr effizienter Remover für Negativlacke (Flüssiglacke als auch Trockenfilme). Durch seine Zusammensetzung und speziellen Additive kompatibel mit Metallen übicherweise eingesetzt für BEOL interconnects oder WLP bumping.

TechniStrip™ Micro D2

Vielseitig einsetzbarer Stripper für Lift-off Prozesse oder generell dem Auflösen von Positiv- und Negativlacken. Seine Zusammensetzung zielt auf eine verbesserte Kompatibilität zu vielen Metallen sowie III/V Halbleitern.

> TechniStrip™ Micro D2

TechniStrip™ MLO 07

Hoch-effizienter Remover für Positiv- und Negativlacke eingesetzt in den Bereichen IR, III/V, MEMS, Photonic, TSV mask und solder bumping. Kompatibel zu Cu, Al, Sn/Ag, Alumina und einer Vielzahl organischer Substrate.

> TechniStrip™ MLO 07

Galvanik:

AX100 (Plating Activation Solution)

Eine saure Lösung zur Vorbehandlung und Aktivierung von Metall- bzw. Saatschichten auf denen eine unmittelbare galvanische Abscheidung gewöhnlich zu Haftungsproblemen führt. Beispiele hierfür sind die Goldabscheidung auf Nickel, oder die Abscheidung unmittelbar auf Ti oder TiW Schichten.

Ätzgemische:

Cu Etch 200 UBM (Cu Ätze)

Fertig angesetztes, leicht alkalisches Ätzgemisch für Cu, selektiv zu vielen Metallen wie Ni, Au, Cr, Sn und Ti. Typische Anwendungsgebiete liegen in der Mikrosystemtechnologie speziell beim Entfernen der Cu Saatschicht nach der galvanischen Abscheidung (under bump metallization, UBM).

TechniEtch™ CN10 (Cu und Ni Ätze)

Ätzgemisch auf der Basis Salpeter- und Phosphorsäure für Cu und Ni. Für den Ätzvorgang ist eine vorherige Zugabe von 8 - 16 % H2O2 (30 %) notwendig, die Ätzrate erreicht ca. 300 - 400 nm / min bei 25° C.

> TechniEtch™CN10

TechniEtch™ AC35 (Au und Cu Ätze)

Iod-basiertes Ätzgemisch für Au und Cu, gekennzeichnet durch eine erhöhte Stabilität und Kapazität, sowie eine verbesserte Benetzung, bezogen auf übliche Iod-basierte Ätzgemische. Besonderes Merkmal der TechniEtch™ AC35 ist die Fähigkeit, beim kombinierten Ätzen von Au und Cu das Unterätzen des Au möglichst gering zu halten.

TechniEtch™ TBR19 (Ti, TiW und TiN Ätze)

Fertiges Ätzgemisch für Ti, TiW und TiN in Verbindung mit Cu bump pillars. TechniEtch™ TBR19 ist kompatibel zu den meisten under bump metallization (UBM) und copper pillar integration Materialien wie Cu, Al, Ni, Glas, organischen Substraten und vielen Kunststoffen wie Polypropylen, HDPE, PFA, PTFE Kalrez, PEEK und PE. Die Ätzrate bei 50°C liegt bei ca. 1000 A/min.

TechniEtch™ SO102 (TEOS Ätze)

Tetraethylorothosilicate (TEOS) Ätzlösung mit speziellen Additiven für eine exzellente Benetzung und Ätzratenkontrolle.

TechniEtch™ TC

Fertig angesetztes, auf Salpeter- und Flusssäure basiertes Ätzgemisch für Titan. Die Ätzrate beträgt ca.  200 - 400 nm/min bei 25°C und steigt zu höheren Temperaturen hin.

> TechniEtch TC


JETZT ERHÄLTLICH

Aceton und Isopropanol von MicroChemicals

Nun gibt es das MicroChemicals Aceton und Isopropanol in ULSI Qualität. Unsere Lösemittel gibt es in 2,5 L Gebinden und können als Einzelflasche oder in der Verpackungseinheit von 4 x 2,5 L bestellt werden. Beide Produkte eignen sich ideal zur Substratreinigung für organische Verunreinigungen und Partikel.

> Aceton
> Isopropanol

> Infoblatt
> Spezifikation Aceton
> Spezifikation Isopropanol

Wenn Sie Interesse an weiter führenden technischen Informationen, einem Angebot oder einem kostenlosen Muster haben, bitte zögern Sie nicht uns zu kontaktieren. > sales(at)microchemcials.com

 

Fotolithografie Anwendungshinweise

Eine große Anzahl an Dokumenten zu theoretischem und praktischem Hintergrund aller Schritte der Mikrostrukturierung haben wir hier als pdf zum Download gelistet:
> Technische Info


®AZ, das AZ Logo, BARLi und Aquatar sind eingetragene Markenzeichen der Firma Merck Performance Materials GmbH.