Cr etch 210 - 5.00 l - EVE/EUD!
| Anzahl | Stückpreis |
|---|---|
| Bis 1 |
494,00 €
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| Bis 5 |
481,00 €
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| Ab 6 |
473,00 €
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Beschreibung
Produktinformationen "Cr etch 210 - 5.00 l - EVE/EUD!"
Cr-Ätzen 210
Chrom-Ätzmittel
Allgemeine Informationen
Cr-Ätz 210 ist ein alkalisches Ätzmittel für Cr. Das Ätzmittel wird für die nasschemische Strukturierung oder Entfernung von dünnen Cr-Schichten mit Selektivität für Metalle wie Au, Sn, Pt, Cu, Ni, Ti, Ta verwendet. Häufige Einsatzgebiete sind die Halbleiterfertigung oder die Mikrosystemtechnik, z. B. zum Entfernen oder Strukturieren einer Cr-Barriere- oder Adhäsionsschicht in einem Plating-Seed-Stack.
Produkteigenschaften
- Geringer Unterschnitt (im Bereich der Schichtdicke), minimale Strukturgröße < 1µm
- Selektivität für viele Materialien, z. B. gängige Metalle, die in der Galvanikindustrie verwendet werden
- In verschiedenen Reinheitsgraden erhältlich
- Kompatibel mit Resist Maske
- Einsatz bei Raumtemperatur
- Steigerung der Ätzrate durch Erhöhung der Temperatur auf bis zu 40°C
Selektivität
Cr Etch 210 ist kompatibel/selektiv zu folgenden Materialien:
- Fotolacke: gängiger Novolak als Maske Resist (z.B. AZ® Photoresist)
- Metalle: kein Angriff auf Au, Sn, Pt, Cu, Ni, Ti, Ta
- Metalle: greift Cr an
- Halbleitermaterialien: Si, SiO2, Si3N4
Die Angaben zur Selektivität und Kompatibilität sind Herstellerangaben und erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Bitte kontaktiere uns für weitere Details.
Ätzrate
Unter normalen Bedingungen beträgt die Ätzrate etwa 10 bis 15 nm/min bei 40 °C (bei Raumtemperatur entsprechend niedriger). Eine gesputterte 30nm Cr-Schicht wird in etwa 180 Sekunden geätzt. Die gemischte Ätzlösung ist langzeitstabil und kann je nach Anwendungsbedarf mehrfach verwendet werden. Es wird empfohlen, die Lösung spätestens dann zu entsorgen, wenn sich die Ätzrate um 20% verändert hat.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt Cr etch 210 deutsch
Sicherheitsdatenblatt Cr etch 210 deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt Cr etch 210 englisch
Technisches Merkblatt Cr etch 210 deutsch
Anwendungshinweise:
Nasschemisches Ätzen englisch
Nasschemisches Ätzen deutsch
Nasschemisches Ätzen von Metallen englisch
Nasschemisches Ätzen von Metallen deutsch