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TechniClean CA25 - 5.00 l - MOS

TechniClean™ CA25 is a semi-aqueous proprietary blend formulated to address post etch residue (PER) removal.

Produktinformationen "TechniClean CA25 - 5.00 l - MOS"

TechniCleanTM CA25

Post Etch Residue (PER) Remover

Allgemeine Informationen

TechniCleanTM CA25 ist ein halbwässriges Gemisch zur Entfernung von Post Etch Residue (PER) für alle Verbindungsstellen und Technologieknoten. Es ist äußerst effizient bei der schnellen und selektiven Entfernung von metallorganischen Oxiden von Al, Cu, Ti, TiN, W und Ni.

Produkt-Eigenschaften
  • Flammpunkt: > 120°C
  • Wasserlöslichkeit: Vollständig mischbar
  • Viskosität (20°C): < 3 cP
  • Siedepunkt: 100°C
  • Dichte (bei 20°C): 1.041 g/cm3
Verträglichkeit

Entfernt Organo-Metalloxide von:

  • Metallen: kein Angriff auf Al, Cu, Ti, TiN, W, Ni

Die Angaben zur Selektivität und Verträglichkeit sind Herstellerangaben und erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Bitte kontaktiere uns für weitere Details.

Wichtigste Merkmale
  • Unerreichte Vielseitigkeit bei der PER-Reinigung
  • Hohe Effizienz bei niedriger Temperatur
  • Keine zwischengeschaltete Spülung
  • Geringe Umweltbelastung (fluorid-, amin-, hydroxylamin- und katechinfrei)
  • Kosteneffizienz
Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt TechniClean™CA25 (MOS) englisch
Sicherheitsdatenblatt TechniClean™CA25 (MOS) deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt TechniClean™CA25 (MOS) englisch

Technische Daten:
Spezifikationen TechniClean™CA25 (MOS)

Anwendungshinweise:
Fotolack Entfernen englisch
Fotolack entfernen deutsch

Weitere Informationen zur Verarbeitung

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