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AZ 3DT-102M-15 - 3,785 l

AZ® 3DT-102M-15 a thick, chemically amplified high resolution positive photoresist for high aspect ratios.

Produktinformationen "AZ 3DT-102M-15 - 3,785 l"

AZ® 3DT-102M-15

Chemisch verstärktes Positiv Fotolack

Allgemeine Informationen

AZ® 3DT-102M-15 ist ein chemisch verstärkter Positivton Fotolack mit einem sehr hohen Aspektverhältnis. Er ist für die Verwendung als Maske für Trockenätz-, Ionenimplantations-, RDL- und Galvanikanwendungen (Cu-kompatibel) vorgesehen. Sie kann sowohl mit i-line Steppern als auch mit herkömmlichen Mask Alignern verwendet werden. Die AZ® 3DT-102M-15 ist für einen Schichtdickenbereich von 8 - 20 µm vorgesehen.

Produkt-Eigenschaften
  • Steile Seitenwände
  • Kompatibel mit Kupferplattierungs-Verfahren
  • Für TSV, Implantation, RDL, Galvanik, Trockenätzung
  • Chemisch verstärkt à PEB obligatorisch
  • Kompatibel mit den meisten Fotolack Stripper (z. B. AZ® 100 Remover, auf Basis organischer Lösungsmittel oder alkalisch)
  • i-line empfindlich (kann auch für Breitbandbelichtung verwendet werden)
  • Resist schichtdickenbereich ca. 8 - 20 µm
Developer

Die empfohlenen Developer sind AZ® 326 MIF oder AZ® 726 MIF für den Fotolack AZ® 3DT-102M-15.

Ablöser

Die empfohlenen Abisoliermittel für den AZ® 3DT-102M-15 sind AZ® 920 Remover, AZ® 100 Remover, TechniStrip P1316, TechniStrip P1331 und TechniStrip MLO07.

Ausdünnen/Randwulstentfernung

Wir empfehlen zum Verdünnen das AZ® EBR Solvent.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 3DT-102M-15 Fotolack englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 3DT-102M-15 Fotolack deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 3DT-102M-15 Fotolack englisch

Anwendungshinweise:
Weitere Informationen über Fotolack Verarbeitung

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Remover

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